二手 NANOMETRICS NANOLINE 50-2/50-2C #9101475 待售

NANOMETRICS NanoLine 50-2和50-2C是高性能的自動掩模和晶圓檢測系統。它們是為200 mm晶片設計的,陣列尺寸可達2000 mm × 2000 mm。設備可以用高分辨率CCD相機檢查晶片的圖案缺陷、顆粒汙染和光刻材料。該系統能夠在短時間內生成完整的全芯片圖像。這些圖像是由擴散受限的對焦目標或專有的寬步模式創建的，並在高分辨率、大幅面電荷耦合器件（CCD）相機和激光線投影單元上提供。該機器還提供了一種先進的StereoDetection算法,它可以檢測最具挑戰性的計量挑戰中的小細節、攻擊性缺陷和跨越缺陷。NanoLine 50-2和50-2C采用集成的圖像處理工具,能夠從晶圓中提取精細的圖樣細節,並提供自動缺陷分類和輸出報告。該資產能夠查看近紅外（NIR）和光學成像。此外,還可以配置3D功能,以便檢查低地形區域。NanoLine 50-2/50-2C旨在提供高可重復性和長期精度。它利用一個快速的重新定位模型，一個增量加速度計和動態平衡設備，以確保準確的圖像對準隨著時間的推移。該機可使用三輥獨立軸，掃描速度高達2000毫米× 2000毫米/秒。該系統的組件由剛性、不彎曲、易於維護的材料構成，以確保最高質量的圖像和性能。該單元還通過專有的NANOMETRICS算法進行校準，該算法能夠補償相機傳感器、鏡頭和照明方面的變化。機器由功能強大、易於使用的圖形用戶界面（GUI）控制。GUI完全可定制,並具有高級工具自動化和報告功能等功能。它還與最常用的EDA或CAD軟件兼容，使得集成到流程流中變得容易。NANOMETRICS NanoLine 50-2和50-2C的設計旨在確保計量應用的最高質量結果。高分辨率圖像、精確缺陷檢測和可重復性能使其成為半導體缺陷檢測、光學光刻和光伏面板檢測等應用的理想選擇。該工具的高級功能和直觀的GUI使其非常適合大批量生產和研究環境。