二手 NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV #9105590 待售

NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV是一種掩模和晶圓檢測設備,它將自動對準與高分辨率成像和用戶友好的軟件相結合,使其能夠快速且易於操作。該系統設計用於各種晶圓和掩模檢查應用，為廣泛的分析要求提供卓越的光學性能和靈活性。該設備采用大型高分辨率光學顯微鏡,用於檢查晶片、掩模和芯片。顯微鏡的FOV為75毫米，可調節放大倍數可達200倍。該光學器件的設計可提供出色的圖像清晰度和低像差,從而提高測量精度。顯微鏡還具有5百萬像素的CMOS成像傳感器，具有14位動態範圍和出色的顏色靈敏度。NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV還提供了一個高級階段掃描機,可實現最快、最精確的成像。該工具具有高速掃描資產和索引，設計用於在所有三個軸（X、Y和Z）上精確和同時移動。索引電機設計用於快速移動,振動最小：它可以在40毫秒內移動到40毫米,掃描速度超過200毫米/秒。NanoSpec 210 XP/UV還包括一個自動對準模型，以確保晶圓或蒙版被精確定位並對準顯示器上相應的模式。這確保了一致的性能,即使在不同角度和位置拍攝多個圖像時也是如此。該設備還具有數據記錄能力，使用戶能夠將圖像和詳細測量數據存儲到其計算機，以便進一步分析和報告。為了使用戶能夠快速準確地測量晶圓或掩模上的設計模式,系統包括一個內置的光學近似測量（OPM）單元,用於精確分析。OPM機可測量多達100個功能,並能精確定位和確定尺寸。OPM工具還包括一種用於優化性能的高級模式識別算法。最後，用戶友好的軟件界面使得控制資產和執行復雜的操作變得容易。軟件包括一組完整的設置和選項來自定義分析,從而使用戶能夠快速準確地測量設計模式、缺陷等。總體而言,NANOMETRICS NanoSpec 210 XP/UV是一種先進的掩模和晶圓檢測模型。該設備具有高分辨率成像、快速掃描階段和準確的數據記錄,為各種晶圓和掩模檢查應用提供了卓越的性能和靈活性。