二手 NANOMETRICS NanoSpec 210 #9057991 待售

NANOMETRICS NanoSpec 210
ID: 9057991
晶圓大小: 6"
Film measurement system, 6" Dual stage Range of Thicknesses: 100 to 500,000 angstroms Reflectance Mode Thick Films, Reproducibility: 5A ± 5% depending upon the film type Typical Measurement Time: 2.5 seconds Olympus M10x and M40x objective Spot Size: 50 um with 5x objective 25 um with 10x objective 6.5 um with 40x objective Film Types: Oxide on Silicon Nitride on Silicon Negative Resist on Silicon Polysilicon on Oxide Negative Resist on Oxide Nitride on Oxide Polyimide on Silicon Positive Resist on Silicon Positive Resist on Oxide Options available: Olympus M5X and M100X.
NANOMETRICS NanoSpec 210是一種掩模和晶圓檢查設備,旨在以高精度和高速度檢查標稱和非標稱特征。全自動系統能夠測量200毫米晶片上的小特征和小缺陷到1 µm。該單元包含高分辨率成像機和紅外光學器件、光學剖面儀和晶圓機器人等組件。成像工具采用寬視場進行首次通過檢查,采用窄視場進行高分辨率檢查。光學剖面儀用於三維表面剖面儀,晶圓機器人則用於處理晶圓並將其正確定位在資產上進行檢查。NANOMETRICS NANO SPEC 210還有一個先進的數據處理單元,使其能夠快速識別和分類特征、缺陷和非標稱結構。模型提供了每個檢查區域的詳細報告和圖像,可用於進一步的表征和驗證。該設備還擁有各種軟件工具,如測量數據分析包(MDAP)和虛擬缺陷掩碼審閱包(VDMR)。MDAP有助於快速識別和分類復雜缺陷,而VDMR則全面概述檢查結果以進一步診斷或缺陷分類。NanoSpec 210也適用於高精度檢查翻轉芯片、微機電系統(MEMS)和CMOS圖像。它是各種半導體工藝的可靠、經濟高效的檢驗解決方案。整個系統裝在一個機櫃中,便於安裝和操作。通用的標準配置允許在不進行任何硬件修改的情況下完成各種檢查任務。綜上所述,NANO SPEC 210是一種精密的掩模和晶圓檢測裝置.它速度快、可靠、性價比高,適合廣泛的半導體應用。它結合了高分辨率成像機、光學剖面儀和晶圓機器人以及專門的軟件,用於對標稱特征和非標稱特征進行檢查和分類。
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