二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021098 待售

NANOMETRICS NanoSpec 6100是一種掩模和晶片檢查設備，利用其先進的光學成像能力，在檢查半導體掩模和晶片時提供可用的最高分辨率成像。該系統為掩碼和晶片檢查提供了完整的解決方案,使用戶能夠在主動晶片制造過程中快速輕松地驗證設計準確性和規則合規性。NanoSpec 6100配備了多種先進的光學成像系統，包括激光掃描共聚焦顯微鏡（LSCM）和點投影3D共聚焦顯微鏡（PPCM）。它可以對從二氧化矽（SiO2）到4英寸表層基板的晶片類型進行成像，同時在掩模和晶片上提供關鍵圖樣的高分辨率成像。NANOMETRICS NanoSpec 6100還配備了Arc ~ Link功能,可與自動檢查工具集成,以簡化掩模和晶圓檢查過程。這種集成允許自動更新各種參數，同時還允許對處理後的檢查數據進行實時分析。NanoSpec 6100能夠進行速度匹配,允許更快的速度吞吐量和改進的儀器吞吐量可靠性,同時還允許在樣品區域發生變化或缺陷時增強測試覆蓋範圍。該裝置采用高靈敏度檢測器機器，可實現高達0.1微米的高分辨率，同時通過納米級精度進一步提高放大設置的精度。此外，該工具還具有獨特的雙聚焦補償功能，即使樣品不對準，也能實現最佳的掩模和晶圓聚焦。NANOMETRICS NanoSpec 6100還標配了強大的處理引擎,可實現最佳圖像增強。這種圖像增強允許檢查更精細的圖案，並去除光學偽影。NanoSpec 6100結合了檢驗和計量資產,能夠提供最全面的解決方案,在制造過程中主動監控掩模和晶片的質量。此模型具有多種特征,使其能夠精確檢查難以成像的幾何形狀和材料。NANOMETRICS NanoSpec 6100利用特殊技術,例如偏振照明和掃射多級焦點,以減輕光學偽影的影響。最先進的NanoSpec 6100版本是型號M-821-RF,它具有81.25噸視圖的全視野,使其適用於大多數掩模和晶圓類型。總之，NANOMETRICS NanoSpec 6100是一款先進的蒙版和晶圓檢測設備，為用戶提供卓越的光學成像能力、速度匹配、納米級精度以及強大的處理引擎。該系統還具有多種高級圖像增強選項,如偏振照明和多級聚焦,使用戶能夠檢查難以成像的幾何形狀和材料。NanoSpec 6100為用戶提供了一個集成的檢驗和計量單元,從而可以在制造過程中更密切、更準確地監控口罩和晶片的整體質量。