二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9021461 待售

NANOMETRICS NanoSpec 6100是一種高性能的掩模和晶圓檢測設備,設計為掩模和晶圓檢測和缺陷控制提供高精度和重復性。該系統利用最新的成像和測量技術來確保只能生產最高質量的設計和晶片。NanoSpec 6100利用先進的模式識別算法和測量技術,以亞微米分辨率和準確性檢查掩碼和晶片缺陷,以識別和標記設計中的任何異常值。該裝置使用RapidScan激光成像進行掩模對準和驗證，從而能夠對整個掩模圖樣和晶片進行高精度的檢查，即使在更大的設計空間中也是如此。該機器還配備了一個高分辨率攝像機，可以對獲取的材料進行圖像捕捉，以便進行後分析。它能夠同時提供聚焦、移位和放大倍數測量，並具有內置的可編程照明工具。提供了廣泛的可自定義參數,包括光學校正以降低用戶校準成本。NANOMETRICS NanoSpec 6100包括一系列自動測試路由和缺陷測量功能,可簡化設計模型的分析和優化,以及高級缺陷掩蔽。它為用戶提供了靈活的編程功能和強大的自動化測試模式和缺陷測量分析。對於高通量應用,NanoSpec 6100還提供多腔4場10晶圓自動化工作站。該站能夠同時測試和分析10個晶片，每個晶片最多有4個不同的場圖像。這樣可以節省測試復雜陣列和元素的大量時間。NANOMETRICS NanoSpec 6100是用於分析和優化晶圓和掩模設計的多功能且功能強大的工具。憑借其高的計數分辨率、可重復的結果和自動化的測試例程,用戶可以確信他們的設計和晶片獲得了最高的質量和準確性。