二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9355328 待售
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ID: 9355328
晶圓大小: 3"-8"
Film thickness measurement systems, 3"-8"
Films: Up to 3-layers
Wavelength range: 400 to 800 nm
Film thickness range:
Visible: 250Å to 20 μm
UV and visible: 40Å to 20 μm (Dependent on film type)
Reproducibility: < 1Å UV / 2Å (Visible)
Measurement time: 0.5-3 Sec/site
Data management: 2D and 3D Mapping / Diameter scan
Communication type: SECS II
Data export: ASCII
Optics: 4x, 10x, 15x (UV), 40x
Spot sizes: 50 / 20 / 18 (UV) / 5.5 μm
PC System with high capacity drives
LCD Screen
Tabletop components:
Optics stand
Monitor and keyboard
Mouse
Trackball and joystick
Control electronics (WxDxH):
14" x 24" x 28"
35.56 x 60.96 x 71.12 cm
Power supply: 117 ±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A.
NANOMETRICS NanoSpec 6100是一種前沿掩模和晶圓檢測設備,可幫助半導體制造商確保最高生產質量。該系統融合了高功率（100瓦）激光二極管、大視場相機以及一套先進的光學和圖像處理算法。NanoSpec 6100可自動檢查掩模表面和晶片表面小至3.5nm的缺陷特征,並能夠快速檢測光刻熱點、顆粒、劃痕和其他關鍵缺陷。NANOMETRICS NanoSpec 6100利用100瓦激光二極管將光投射到整個基板表面掃描的大型矩形視場中。該單元的光學器件設計為最大限度地減少失真和光散射，使其能夠以高保真度檢測亞波長缺陷和表面特征。通過圖像分割算法對生成的圖像進行實時分析，使缺陷得以識別和標記，以便進一步檢查。NanoSpec 6100使用兩種高級成像模式，提供最大的靈活性和魯棒性。在RGB成像模式下，機器利用高分辨率彩色傳感器檢測掩模和晶片基板的缺陷。相比之下，在單波長成像模式下，單個激光波長用於對大小粒子、劃痕、凹坑和其他缺陷進行基於閾值的檢測。NANOMETRICS NanoSpec 6100還提供了高度的自動化和靈活性。大型觸摸屏顯示屏允許操作員輕松啟動和停止檢查、更改設置以及分析結果。此外,該工具的高速掃描能力和自動缺陷識別提供了無與倫比的吞吐量和性能。總體而言,NanoSpec 6100是一種出色的掩碼和晶圓檢查資產,可提供業界領先的性能。該模型具有高分辨率成像和強大的自動化算法，能夠快速可靠地檢測光刻缺陷和臨界表面特征。它是實現現代半導體制造最高質量和產量水平的有力工具。
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