二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9372486 待售

NANOMETRICS NanoSpec 6100 Mask&Wafer Inspection設備是NANOMETRICS開發的一種高性能成像和光學計量工具,用於對高級設備特性進行高精度、高分辨率、掃描級別的評估。該系統利用了最新的光學顯微鏡、數字成像、測量軟件和計算機控制技術，旨在快速獲取、處理、分析和報告有關最復雜半導體器件的掩模和晶片結構的綜合信息。NanoSpec 6100專為精確測量納米級光學圖樣而設計,例如高亮度平板顯示器（FPD）所需的光學圖樣。此單元使用專有的數字點自動對焦機,該機可執行快速、基於散焦的聚焦縫合,並具有高精度的實時測量結果。NANOMETRICS NanoSpec 6100報告工具包括功能強大的軟件,它將多層數據組合到一個報告中。這包括高分辨率掃描級成像、逐層基於模型的成像、精細的對齊能力以及廣泛的測量範圍。此外,該工具還提供了多種自定義功能來驗證測量結果,包括評估多層掩碼對齊錯誤的影響和設計工藝優化計劃的能力。NanoSpec 6100還能夠通過其先進的多反射和反射丟失功能進行實時成像和檢查。這些使資產能夠快速提供大量的結果,並減少測量。此外,為了確保最高的測量精度,該模型配備了高靈敏度傾斜度和電平傳感器,以減少可重復性誤差。NANOMETRICS NanoSpec 6100包含高度靈活的軟件體系結構,旨在與各種外部儀器連接。這包括但不限於X射線衍射、原子力顯微鏡、幹涉儀和掃描電子顯微鏡的應用。此外,設備還包括一整套分析工具,如實驗設計和多維曲線擬合。NanoSpec 6100 Mask和Wafer Inspection系統具有直觀的用戶界面、先進的掃描和計量功能,並且能夠產生非常精確和可靠的結果,是快速準確地測量和分析高級設備模式的理想解決方案。