二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9408485 待售

NANOMETRICS NanoSpec 6100是采用最先進的成像、掃描和測量技術構建的專門設計的掩模和晶圓檢測設備。該系統能夠分析分辨率高達8k的掩模和晶片,並能夠測量重復精度低於10nm的數據。NanoSpec 6100設計用於在生產前和生產階段，在包括半導體、光掩模、印刷布線板和電子包裝在內的多個行業中檢查大型口罩和晶片。該單元配有一個電動級，用於自動樣品掃描；雙軸機動高度調整，以快速有效地測量樣品；以及獲得專利的智能像差校正算法。這些特性使其能夠在大面積上檢測小至1.0uM的缺陷,從而以較小的可變性提供可靠的檢測。它可以檢查尺寸不超過575 x 489mm的口罩和直徑不超過4英寸或200 mm的晶片。在數據輸出方面，該機可提供高對比度圖像和產生的缺陷圖，具有虛假對比度增強、暗對比度增強和顏色對比度增強。在成像能力方面，NANOMETRICS NanoSpec 6100使用拉曼共焦（RCM）工具，這是一種先進的成像方法，利用生物對比機制產生光學切片而無需物理燒蝕。RCM資產提供了廣泛的分辨率功能,並且可以對復雜的表面結構進行成像,而其他成像技術無法做到這一點。該模型進一步提供了全自動的現場排泄率分析，為缺陷分析提供了全面的數據輸出。這意味著設備生成的自動報告包含有關材料結構、缺陷特性和缺陷潛在原因的詳細信息。最後,NanoSpec 6100提供了一項特殊功能,允許用戶根據需要檢查的表面缺陷設置檢查參數。這樣可以提高檢查各種曲面的靈活性。總體而言,NANOMETRICS NanoSpec 6100是一個高度先進的掩模和晶圓檢查系統,它結合了最先進的成像和掃描技術,並提供自動排便分析以提供全面的結果。該裝置能夠對復雜材料進行詳細的分析和測量，使其成為檢測優質口罩和晶片的絕佳選擇。