二手 NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV #9160099 待售
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ID: 9160099
晶圓大小: 4"
Film thickness measurement system, 4"
Stage: 4" wafers
Range of Thickness: 100 to 500,000 angstroms
Spot size: 50 um with 5x objective
25 um with 10x objective, 6.5 um with 40x objective
Objectives: Olympus MS Plan 5, MS Plan 10, ULWD MS Plan 50
Optional objectives: Olympus M5X and M100X
Film types:
Oxide on Silicon
Nitride on Silicon
Negative resist on Silicon
Poly silicon on Oxide
Negative resist on Oxide
Nitride on Oxide
Polyimide on Silicon
Positive resist on Silicon
Positive resist on Oxide
Reflectance mode:
Thick films, reproducibility: 5A ± 5% depending upon the film type
Typical measurement time: 2.5 seconds
Typical measurement time in UV mode: 10 seconds.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 210UV是一種最先進的面罩和晶圓檢測設備,其檢測精度最高。該系統將先進的光學和數字成像技術與計算機控制的掃描單元相結合，提供最高水平的檢測精度。AFT 210UV提供分辨率低於50納米的圖像分析、缺陷分析、缺陷大小和缺陷映射。該機包括兩個線性掃描階段，一個檢振掃描階段，以及一個謹慎掃描階段，以產生廣泛的掃描參數和分辨率。謹慎掃描階段具有高達10nm的分辨率和~ 10mm2的視場。這三個階段都結合了一個1200萬像素的攝像頭，能夠以極高的速度和精確度獲取圖像。此外，該工具還包括一個16位數字信號處理器（DSP）、一個現場可編程門陣列（FPGA）和一個微控制器，用於並行執行圖像捕獲、缺陷檢測和分析。AFT 210UV中的光學引擎旨在為要求最苛刻的檢查應用提供高效率和高分辨率。先進的光學設備還可以實現成像功能,如色彩、增益、聚焦、實時視圖和極化。AFT 210UV配備了先進的軟件和算法以實現自動檢查。其先進的分析和圖像處理算法可用於檢測晶圓和掩碼上的小缺陷。該資產還具有先進的缺陷分析算法,可準確識別、分類、計數、大小和繪制晶圓或掩碼上的缺陷。總體而言,NanoSpec AFT 210UV是一種功能強大且可靠的掩模和晶片檢查工具。它具有精確光學、超高速成像、高分辨率和先進成像算法的獨特組合，提供最高水平的檢測精度。該模型非常適合在處理高級晶圓和掩模制造過程時做出關鍵決策。
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