二手 NANOMETRICS NanoSpec AFT 4000 #9024521 待售
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單擊可縮放
ID: 9024521
晶圓大小: 3"-8"
Film thickness measurement system, 3"-8"
Capable of accommodating wafers from 75mm to 200mm
Olympus 5x, 10x, and 50xULWD objectives
Olympus 10x eyepiece
System Computer and Software
Visible Single Layer Films: 500 – 50,000A
UV Single Layer Films: 25 – 500A
Visible Double (Top) Layer Films: 100 – 30,000A
Visible Double (Bottom) Layer Films: 500 – 50,000A -Single Layer Thick Films Visible: 4 – 75 um
Reflectance Visible: 400 – 850nm
Oxide on Poly UV: 150 – 10,000A
Oxide on Metal Visible: 3,000 – 20,000A
Oxide on Metal UV: 500 – 5,000A
Operator Manual and Documentation.
NANOMETRICS NanoSpec AFT 4000是一種先進的掩模和晶圓檢測設備,旨在為半導體器件提供高質量的自動化測試。該系統利用自動聚焦離子束(FIB)技術來執行成像和分析任務。這為測量和分析掩模和晶片的物理特性提供了一種有效的手段,從地形和組成到互連性和光刻特性。NANOMETRICS NANOSPEC/AFT 4000由三個主要部分組成。第一個是檢查組,其中包含高分辨率的西門子MAGNA 3軸探測器和強大的顯微鏡能力。這使機器能夠在放大倍數下準確檢測和解析最小的特征。二是利用雙離子源工具的FIB源。這提供了用於精確成像和分析的受控離子劑量。最後,該資產具有集成的分析和審查界面。這使用戶能夠輕松監控和評估每個測試的結果。NanoSpec AFT 4000具有多種獨特的功能。第一,它具有較高的吞吐量階段,允許多個掩模和晶片片同時進行單次通過測試,這顯著加快了過程,可以顯著減少周轉時間。此外,該模型具有很高的準確性和可重復性,每次可為用戶提供可靠的結果。該設備還具有內置的安全特性。其中包括有助於防止汙染的真空系統,以及用於降低電荷堆積風險的防靜電機制。此外,該單元能夠同時測量地形和組成,提供全面的結果以優化效率。NANOSPEC/AFT 4000是一款用途廣泛且高度可定制的機器。因此,它可以配置用於多種應用,包括成像、電化學、沈積和掩模晶片制備。它設計用於各種行業,從集成電路到印刷電路板。即使在高溫和濕度環境中,它也能夠保持其準確性和結果,使其成為各種生產環境的理想選擇。
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