二手 NANOMETRICS NanoSpec II #293766064 待售

NANOMETRICS NanoSpec II是NANOMETRICS開發的一種掩模和晶圓檢測設備，用於精確檢測小至0.1µm的缺陷。NanoSpec II旨在提供市場上質量最高的成像,並可輕松集成到復雜的半導體工作流程中。這套新系統具有高達128倍的高分辨率成像功能,可進行最佳缺陷分析。它的路徑分割功能利用多個傳感器來檢查單個模具,從而縮短了檢測時間並提高了整體吞吐量。此外,其獨特的ASMI（適應性子像素運動插入）技術可補償樣品變形,確保一致準確識別缺陷。此外,NANOMETRICS NanoSpec II還提供了廣泛的視野和全域測量,並具有用於關鍵覆蓋缺陷分析的真實覆蓋。該單元獲取所有可用的光數據以實現最大的圖像模擬,包括暗場、亮場和偏振。NanoSpec II還配備了全套自動化缺陷分類算法，以有效地對潛在缺陷站點進行排序。報告的假陽性缺陷站點較少,因此無需手動查看字形圖像進行檢查。此外,色彩增強技術會將缺陷影像呈現為本色,以提高分類精度。這臺正在申請專利的機器集成到NANOMETRICS校準平臺中,可在不同的現場尺寸上提供簡單的安裝和出色的圖像一致性,從而降低測試成本。它易於使用的軟件平臺簡化了工具配置,提供了自動化的工具和樣品檢查、圖像捕獲和缺陷審查,從而提高了整個掩模和晶圓檢查過程的效率。NANOMETRICS NanoSpec II是一個理想的解決方案,適用於需要提高晶圓缺陷靈敏度、提高生產率的制造商,並為需要直觀、易於使用的檢驗資產的制造商設計。它具有高精度成像功能,是希望提高工作流程速度和準確性的制造商的理想選擇。