二手 NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV / M-5100 #9211233 待售

NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV/ M-5100是一種多功能的多傳感器掩模和晶圓檢測設備,旨在為用戶提供無與倫比的精確度的高效結果。它提供了業界最高的空間分辨率和最精確的特征分析。該系統將特征測量、CD計量和低噪聲圖像結合到一個單一的、用戶友好的儀器中。NanoSpec M-5100UV/ M-5100包括四個不同的基於激光的掃描儀,它們高效且可定制,可用於各種掩模和晶圓檢查應用。這四種掃描設備分別是Nanofocus X射線、Mask-to-Wafer Unit、Overlay/Flatness Machine和Reticle Defect Tool。Nanofocus X射線掃描儀擁有高分辨率成像資產,可提供高達15nm的圖像。此模型允許自動識別和匹配特征,從而使其在識別和表征特征方面非常高效。Mask-to-Wafer設備能夠快速比較每個mask和wafer的CD/SD輪廓，然後準確評估兩者之間的差異。它還可以實時進行掩模和晶片檢查。這樣可以快速高效地進行掩碼和晶圓的比較。覆蓋/平整系統的設計目的是為了加快對具有平整度和覆蓋精度的掩模和晶片的檢查。單位測量不同特征和大小的兩者之間的差異。這樣就不需要繁瑣的手動測量了。Reticle缺陷機器由一種模式識別算法組成，該算法在檢測和識別標線上的缺陷方面非常準確。它還可以自動保存檢測到的缺陷，允許用戶在檢查標線時節省時間和資源。總體而言,NANOMETRICS NanoSpec M-5100UV/ M-5100是一種高效、準確的工具,可幫助用戶快速準確地識別和表征掩碼和晶片上的特征。它的四個掃描設備以精確的特征分析提供了最高的空間分辨率，成為高效掩模和晶圓檢測的理想選擇。