二手NEUVIS(光罩與晶圓檢測)待售
NEUVIS是一家著名的口罩和晶圓檢測設備制造商,為半導體行業提供一流的技術。他們的檢查系統配備了最新成像技術的類似物,確保了對掩模和晶片缺陷的準確檢測和分析。NEUVIS檢查單位的一大優點是靈敏度非常高,即使是最小的缺陷也能被檢測出來。這些機器采用了先進的圖像識別和處理算法,在缺陷識別方面提供了更高的準確性。此外,NEUVIS工具提供高吞吐量速度,確保高效快速的檢查過程。其中一個突出的例子,他們的面罩和晶圓檢驗系統是IR2R。該系統利用紅外輻射進行缺陷檢測,使其能夠識別可見光資產所看不到的缺陷。該IR2R在檢測子像素缺陷方面具有顯著優勢,並提供了非常精確的結果。NEUVIS檢查模型在評估口罩和晶片的臨界尺寸(CD)方面也表現出色。它們精確測量CD參數,確保半導體器件的質量和性能。綜上所述,NEUVIS掩模和晶片檢測設備擁有先進的類似物,優越的缺陷檢測能力,高通量速度,精確的CD測量。該IR2R是一個突出的例子,展示了NEUVIS在利用紅外輻射識別缺陷方面的專業知識。
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