二手 NIKON 2A #77230 待售

NIKON 2A是由NIKON光學微電子技術團隊開發的Mask and Wafer檢測設備。它設計用於對掩模、晶片和獨立膠片上最精細的蜂窩電路模式進行最精確的檢查。2A的核心是集成兩個激光系統的先進光學設計。第一個激光系統是一個Koehler基板方差，旨在拾取在面膜，晶片，和獨立的薄膜微妙的微小模式變化。第二個激光單元采用超高精度目標，精確捕獲潛在缺陷，如小顆粒和暗場模式，並提供低於1 μ米的分辨率。通過將這兩個系統與全自動圖像分析機相結合，NIKON 2A可以對復雜的面膜、晶片和獨立式薄膜進行全面檢查。其先進的光學設計和自動化成像工具融合了高對比度的分辨率和更大的視野。這樣就可以快速、準確地分析面膜和基板上的亞微米模式和缺陷。此外，2A包括一個可選的掃描資產，允許檢查和分析基板在制造過程的各個階段的動態轉化。NIKON 2A的成像模型能夠同時提供2D和3D信息,並能夠檢測表面和掩埋缺陷。它能夠檢測任何角度的缺陷形狀,並自動將其校準為指定的大小。最後,設備提供了詳細的缺陷分析,包括尺寸、形狀和質量。2A中強大的硬件設計具有最大的可靠性和易於維護。它的高級自動化實現了簡單直觀的設置,而直觀的用戶界面則便於操作和控制。簡而言之，NIKON2A是一種可靠、高精度的掩模和晶圓檢測系統。它能夠準確識別微小的模式變化，並檢測口罩、晶片和立膜上的潛在缺陷。2 A提供強大的圖像分析和校準,以及詳細的缺陷分析和直觀的用戶界面。其堅固的設計保證了最大的可靠性和易於維護。