二手 NIKON NSR 2205 i14E2 #293725478 待售
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ID: 293725478
晶圓大小: 8"
優質的: 2001
Stepper, 8"
Lamp Power: 847.096㎽/㎠
Lamp Uniformity: 4.450%
Repeatability (3sigma n-1) 0.036um
Step-X (3σ): 0.019 ㎛
Step-Y (3σ): 0.017 ㎛
Magnification: 1/5 Reduction
Light Source: i‑Line (365 nm)
Resolution: 0.35 µm
Lens NA: 0.50–0.63 Variable
Exposure Field Size: 22 mm (up to 17.9H × 25.2V)
Control: Bellows Unit
Lens Adjustment: Micrometer / PIEZO / Washer
Lamp: 2.5 kW Hg Lamp
PC System Type: DMCC
No UPS System
Reticle Size: 5-6"
Alignment Sensor LSA
Alignment Sensor FIA
No Alignment Sensor LIA
Alignment Sensor TTLFC2
Measure Software
Illumination System: SHRINC4 Type
Interferometer Type: 5517C
Interferometer Wafer Stage
Interferometer Reticle Stage
Focus System: Multi Focus
Leveling System: Table
Wafer Loader Type: Type 3
Wafer Orientation / Notch: OF or Notch
Wafer Loader Wafer Size: 8"
(2) Cassettes
Wafer In‑Line: Left In‑Line (DNS)
Wafer Pre‑Alignment Type: NC PRE2
No Wafer Edge Exposure
Reticle Loader Type: Normal
Reticle Barcode Reader
Particle Checker
Signal Tower
ASAHI SENDAI N4A‑C Chamber
Electrical Power Spec: 208 V / 60 Hz / 3‑Phase
2001 vintage.
NIKON NSR 2205 i14E2是為大體積半導體制造而設計的先進晶圓步進器，特別是在集成電路（IC）和其他微電子器件的生產中。這種最先進的設備結合了精確對準、超高分辨率成像和先進的陣列設計功能,能夠以卓越的精度和可重復性在矽片上制造復雜的納米結構。NIKON NSR-2205I14E2的核心是一個利用深紫外線（DUV）光源實現亞微米分辨率的精密投影光學系統。該單元采用具有多鏡頭元件的高數值光圈（NA）透鏡，將DUV光聚焦到晶片表面上，從而能夠打印臨界尺寸低於100 nm的極小特征。先進的光學設備還采用了自適應照明和像差校正技術來優化整個晶片的圖像質量和圖樣保真度。NSR-2205 I14E2的主要優點之一是其出色的叠加精度，這對於在光刻過程中對齊晶片上的多層圖案至關重要。該機利用先進的多自由度對齊階段，加上復雜的圖像處理算法，實現了不同掩模層之間的亞納米對齊精度。這樣就可以制造復雜的多層結構,並具有嚴格的註冊要求,例如高級內存和邏輯設備中的結構。除了卓越的對齊功能外,NSR 2205I 14E2還提供了一系列高級陣列模式,以適應各種光刻要求。該工具同時支持接觸光刻和接近光刻模式,允許晶圓上具有不同特征大小和長寬比的陣列。它還具有可變數值孔徑（VNA）功能，使用戶能夠調整投影光學器件的分辨率和焦點深度，以適應不同的圖樣需求。為了提高生產率和縮短周期時間,NSR-2205I14E2配備了自動晶圓處理和對準系統。該資產具有機器人晶片裝載機和卸載機，以及先進的晶片對準傳感器和算法，以確保在光刻過程中快速準確的晶片定位。這種高度自動化不僅提高了吞吐量,而且最大限度地減少了操作員的幹預,降低了人為錯誤的風險,並提高了整個過程的效率。總體而言,NSR 2205 i14E2代表了晶圓步進器技術的最前沿,為半導體制造商提供了一種強大的工具,能夠以卓越的精度和可靠性滿足亞微米光刻技術的要求。憑借其先進的光學設備、精確的對準功能和自動化功能,此型號非常適合生產下一代具有不斷提高的復雜性和性能水平的微電子設備。
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