二手 NIKON Optistation II #9307809 待售

NIKON Optistation II是為平版印刷生產而設計的面罩和晶圓檢驗設備。憑借其最先進的照明和成像技術，它能夠進行可靠、高精度的測量，並具有極低的噪聲水平，用於微電子工業。該系統具有一個光場傳輸照明模塊，作為成像應用的光源。它為清晰的成像和不受探測器和圖樣幹擾的信號提供了良好的對比度。其堅固、穩定的結構設計在200 µm以上的廣域範圍內保持均勻。檢測單元還包括一個易於使用的maXelerator級，提供快速、平穩的移動和精確、可重復的定位。它能夠掃描大面積，如一次移動中的全晶片，同時準確計算沿途的中間點。Optistation II提供了一系列先進的定量圖像分析功能，用於準確和可重復的缺陷檢測。它可以識別線寬、邊緣位置、線粗糙度和缺陷大小等多種參數，用於精確的測量和診斷。該機器基於一次曝光、快速視圖對齊技術，允許用戶快速識別、對齊和測量晶片上的防禦模式。它配備了集成測量技術，在軟件控制下與高速掃描無縫結合，以優化吞吐量和精度。總體而言,NIKON Optistation II提供了一種功能強大且可靠的掩模和晶圓檢查工具,可以高效地高精度地檢查圖樣圖像。它還能夠在軟件控制下快速搜索和精確測量晶片上的防禦模式。憑借其強大的設計和先進的成像技術，是光刻生產的理想解決方案。