二手 NIKON Optistation III #293629232 待售

NIKON Optistation III是一種蒙版和晶片檢查設備，設計用於在半導體制造過程中提供對蒙版和晶片的高質量成像。該系統采用先進的光學、高分辨率相機和精密的基於算法的圖像識別，快速準確地識別和測量半導體掩模和晶圓布局中的缺陷。NIKON OPTISTATION-III配備了一系列光學、透鏡、濾色輪和光源，用於照明樣品。它包含一個支持200和300毫米晶圓尺寸的晶圓檢測階段， 一個用於面罩檢查的扁平基板檢查階段，以及一個高速， 與Optistation II相比,高精度、粗糙/精細的驅動級單元的吞吐量增加了3.5倍或更多。快速的級移動允許更短的曝光時間和更快的圖像處理, 導致更準確的缺陷檢查和準確的工業用途。檢測機使用NIKON專有的Edge and Particle技術，自動檢測晶圓表面特征之間的輪廓和尺寸差異，並準確識別掩模上的顆粒。大量圖像處理算法檢測邊緣對比度和假色、數字信號處理、掩碼級識別（MLI）、特征識別、粒子檢測定位等檢測功能。Optistation III還通過優化檢查過程從而提高吞吐量來最大程度地減少停機時間。此工具具有SYSTEX-B,這是一種晶圓交換資產,它允許模型一次交換多個樣本單元,從而顯著提高吞吐量和效率。同樣,即使需要補充檢查口罩的庫存,口罩交換設備（MES）也可確保連續運行。OPTISTATION-III方便用戶,其自動化操作系統簡化了設置和調整程序。NIKON Optistation III還為環境要素提供保護，並對每個系統元件進行調整，以確保在所有類型的光照條件下進行高質量的成像。它是一種先進的光學檢測裝置，適用於精密光掩模生產、掩模圖樣缺陷檢測、標線檢測、IC晶片缺陷檢測等多種應用。這臺機器為各種掩模和晶片檢查要求設定了高標準的精度、靈活性和速度。