二手 NIKON Optistation VII #293661596 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
NIKON Optistation VII是一種高度先進和精密的掩模和晶圓檢測系統。它設計用於光刻面罩、晶片和組件的高速和高分辨率檢查。它是NIKON的頂級產品,提供更高的準確性、更高的吞吐量和生產率。它技術先進，不僅適用於光掩模和晶片，而且能夠檢查其他類型的印刷品、鍍層和非鍍層晶片。Optistation VII利用Zeiss Achromat 4/0.6NA目標和Fluorart SX HFAPO塗層,配有能夠捕獲2.2納米像素大小圖像的靈敏CCD探測器。這種先進的光學和數碼攝影的組合提供清晰和詳細的圖像從即使是最微小的缺陷。它能夠查看高達12英寸的晶片並捕獲分辨率高達17納米的圖像。此外,NIKON Optistation VII還采用了獲得專利的雙面掃描技術,用戶可以同時檢查晶片的兩側,從而無需進行多次掃描。Optistation VII具有高度的通用性，可以倒置、翻轉、旋轉和平移，以適應各種類型的光學和視角。它還配備了多種自動化功能，便於操作。該系統可以編程為執行各種命令，例如測量形狀、放大感興趣的區域以及檢查晶片的內部和外部。它還允許用戶輕松進行圖像比較和對比，以識別細微的缺陷。NIKON Optistation VII還具有兩個高精度級，用於定位分辨率高達0.1微米的晶片。它還提供精確的翻譯和對齊功能。此外,Optistation VII還集成了高級軟件包,使用戶能夠自動執行檢查任務。該軟件集成了模式識別功能和過程表征,使用戶能夠快速識別和檢測缺陷。NIKON Optistation VII是一種最先進的掩模和晶片檢查系統,提供無與倫比的精度、高分辨率成像和自動化功能,便於操作。它是工業應用的完美解決方案,提供可靠且可重復的結果。而且，它具有成本效益和極高的效率，很容易滿足任何現代半導體制造環境的需求。
還沒有評論