二手 OBDUCAT Eitre 6 #293613266 待售

OBDUCAT Eitre 6是一款先進的掩模和晶圓檢測設備，旨在滿足全球半導體制造商日益增長的需求。該創新系統采用0.25 μ米的技術及其他技術,可為用戶提供無與倫比的速度、準確性和效率,用於檢查口罩和晶片。Eitre 6包含一個大板載荷範圍，同時支持300 mm和200 mm晶片，以及3"、6"和8"平板。該單元利用最新的光學成像和處理技術，對掩模和晶片進行全面的復習，具備種類繁多的檢測模式和強大的自動化能力。光譜範圍從250 nm到6.35 μ m不等，機器甚至可以檢測到這些具有挑戰性的基板中最復雜的缺陷。該工具具有安裝在正交陣列中的圓形視場模擬攝像機的明場/暗場環形陣列。這種獨特的配置確保只掃描蒙版和晶片中最相關的區域，有助於減少輻射暴露。此外,OBDUCAT Eitre 6還具有具有可重復缺陷分配的自動光學檢查資產和內置通知模型,用於在檢測到任何缺陷時向用戶發出警報。可以在Eitre 6中添加一個可選的顯微鏡模塊，從而在掩模和晶圓檢查中實現更高的精度。此模塊使用雙目光學器件對亞微米特性進行直觀的交互檢查，使用戶能夠直觀化和精確測量低至4nm的缺陷。先進的自動化系統也可以包含在設備中，使用戶能夠快速、輕松地實現檢查自動化。從多設備自動化到自動缺陷識別和檢測，用戶能夠控制系統以滿足他們的確切要求。此外，該單元具有跨多個基板存儲、分類和比較缺陷數據的能力，為用戶提供了快速、輕松地識別問題的能力。OBDUCAT Eitre 6堅固可靠的設計確保了較長的保質期,並減少了保持機器最佳運行所需的維護和校準量。此外,該工具還能夠與機器人系統配合使用,從而在制造操作中提供了很大程度的靈活性。總體而言,Eitre 6是功能強大、可靠且經濟高效的Mask&Wafer Inspection資產,非常適合任何半導體制造商。憑借其先進的光學成像和處理功能、直觀的自動化和雙目顯微鏡模塊,用戶一定會體驗到可靠和一致的操作。