二手 OLYMPUS KIF-201 #9271417 待售

OLYMPUS KIF-201是為半導體行業設計的領先的面膜和晶圓檢測設備。它旨在滿足對掩模和晶圓表面3維特征進行全面地形勘測的最高精度要求。該系統結合了先進的激光掃描技術，為掩模和晶圓上的3維特征生成高分辨率、詳細的圖像以及直觀的用戶界面，為質量控制檢查創造了強大而有效的工作流程。KIF-201利用激光掃描狹縫,該狹縫沿預定義的路徑掃描,穿過掩模和晶片表面,可進行極高的精度測量。該狹縫由氦硼激光和靈敏度高達28.2 muW的成像裝置組成。激光狹縫能夠精確測量高達210 μ m的距離，並且能夠記錄沿掃描線的多達250,000個點。這種高分辨率允許檢測掩模和晶圓表面上最復雜的結構。OLYMPUS KIF-201還具有非接觸成像功能,允許設備掃描細膩的結構而不會造成任何損壞。這對於容易刮擦或其他物理損壞的細膩樣品是理想的選擇。它還提供了一個可重復、可靠的過程來檢查細膩的蒙版和晶片表面。此外,KIF-201還擁有一臺獨特的機器,用於管理相機曝光和激光掃描速度,確保每一個圖像和測量都具有最高質量。OLYMPUS KIF-201提供的成像平臺還具有強大的用戶界面,可輕松設置和操作檢查工作流程。它使用圖形工具進行設計,以快速定義路徑並設置圖像捕獲和測量的參數。檢查過程也是完全自動化的，可以完全控制總測量持續時間和結果的準確性。總體而言，KIF-201是半導體行業一個強大而可靠的工具。它提供尖端激光掃描技術和高分辨率成像平臺，確保精確、詳細和可重復的測量。它還具有直觀的用戶界面，允許快速設置和易於操作的檢查過程。它的非接觸成像也確保了細膩的掩模和晶片表面可以被檢查，而不會有任何損壞的危險。所有這些特性使OLYMPUS KIF-201成為精確可靠的掩模和晶圓檢測的理想選擇。