二手 OSI Metra 2100M #9026268 待售

OSI Metra 2100M Mask&Wafer Inspection Equipment提供了一個功能強大的檢查、分析和缺陷審查平臺,為半導體Mask和晶圓制造提供了高度準確的結果。此工具的獨特設計使用戶能夠快速、準確地分析大型晶圓和/或掩碼數據集。該工具可以以以前無法達到的速度快速掃描掩碼和晶片。Metra 2100M可容納高達2微米分辨率的圖像,僅需90秒即可掃描整個13英寸晶圓。這種獨特的優化,加上令人難以置信的高分辨率算法,確保了快速和準確的結果。該系統還設計用於降低晶片的拒絕率，以及消除檢查數據集的錯誤缺陷。在深入分析方面,OSI Metra 2100M提供了許多用戶可選擇的通過/失敗標準,以確保準確性。例如,灰度分析使用逐個像素的比較技術來精確測量圖像細節。此外,該單元還為二進制分析、直線分析、填充分析、密度分析、對比分析和透明度分析提供了粒度分析和復雜應用。這些可以用來註意口罩和晶片之間最微小的差異，幫助識別和消除各種類型的缺陷。該機還包括功能強大的檢測後缺陷審查和優化工具。在這裏，用戶有一系列選項，包括自動缺陷分類、缺陷數據可視化以及各種缺陷類型的自動分類。該工具還旨在為用戶提供內置缺陷數據庫,允許用戶進一步縮短檢查時間,並改進對缺陷的檢測和排除。在用戶舒適性和效率方面,Metra 2100M提供了高級溫度控制和強大的文件格式管理器。這允許用戶存儲和比較不同的圖像,並以有組織和高效的方式管理大型數據集。總體而言,OSI Metra 2100M Mask&Wafer Inspection Asset為用戶提供了可靠、準確且易於理解的結果。其圖像分辨率的優化、先進的分析、缺陷審查和優化工具使其成為半導體掩模和晶圓制造的理想選擇。