二手 PARAGON Ultra 200 #9203540 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9203540
Laser imaging system
Minimum pitch: 20µm
Minimum feature size: 8µm
Data resolution: 1µm (25,400 dpi)
Edge roughness (3σ): ±1µm
Registration accuracy (FTG): ±5µm
Side to side registration (3σ): 10µm
Maximum substrate size: 558mm x 660mm 22" x 26"
Maximum image size: 508mm x 609mm 20" x 24"
Substrate thickness: 0.05mm to 3mm
Imaging wavelength: UV range, 355nm
Energy range: 10-2200 mJ/cm²
Different energy settings:
500 x 400mm, 4 Symmetrical targets, 6sec load/unload
10mJ/cm² - 34 panels/hour
80mJ/cm² - 34 panels/hour
100mJ/cm² - 30 panels/hour
120mJ/cm² - 25 panels/hour
Applications:
IC Substrates
Solder mask
Inner layers & outer layers
Sequential build-up layers
Flex & rigid-flex PCBs
Standard configuration:
Laser system
OPFX Input
RIP Server
8GB Raster memory
Scaling system & power vacuum
System options:
Hole-free inner layer registration
Partial scaling
Wise scaling
Stamping
2D Barcode stamp
Additional vacuum customization plate.
PARAGON ULTRA 200是一種用於精確檢查和測量半導體晶片上器件特征的掩模和晶片檢測設備。該系統可幫助制造商達到高水平的產量和質量行業標準。該裝置采用混合照明機器，具有可調節的背光，以確保對各種半導體晶片進行精確的光學檢查。有了這個工具，制造商可以通過調整光的強度來進行更精確的檢查，以匹配晶圓的折射率。Ultra 200還具有700萬像素的攝像頭和先進的圖像處理算法，確保了高分辨率檢測，並允許用戶檢測到小至0.5微米的缺陷。資產還具有專門的軟件來分析掃描的圖像並突出顯示潛在的缺陷。該模型能夠捕獲二維（2D）和三維（3D）半導體器件的圖像，並提供準確的過程特定信息，然後可用於進一步分析。此外，該設備還可用於分析反射率、偏振、漫射光和雙折射等光學性質。該系統還配備了先進的校準算法，能夠在沒有用戶幹預的情況下自動校準成像單元。這樣可以確保機器保持符合行業標準,並為用戶提供準確的結果。對於希望保持最高質量水平的制造公司,PARAGON Ultra 200為掩模和晶圓檢查提供了可靠、準確的工具。資產可靠性高，精確度高。這使用戶能夠輕松檢測缺陷,同時確保其產品符合行業標準。
還沒有評論