二手 RUDOLPH / AUGUST NSX 105 #9276182 待售
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ID: 9276182
晶圓大小: 8"
優質的: 2005
Wafer inspection system, 8"
Standalone
Main body
EFEM
Main UI
Protection bar
Manual type
Inspection edge contact chuck
Platform for 8"
Matrox 4M
GENESIS Board
Inker
KEYENCE LK-G15 Focus sensor
Objectives: 1x, 2x, 3x, 5x and 20x
Camera type: ADIMEC 1600M (7.4 um/pixel)
Ring light (Dark file illumination)
Without robot handling module
2005 vintage.
RUDOLPH/AUGUST NSX 105掩模和晶片檢驗設備是一種專門的工業設備,設計用於以極高的精度和精確度檢查各種掩模和晶片。該系統結合了最新的先進CMOS成像技術和先進的光學設計,提供了卓越的檢測樣品圖像質量。AUGUST NSX-105 Mask&Wafer Inspection Unit的獨特設計確保了對缺陷的mask、wafer和標線的快速準確的自動測量,使其非常適合用於最嚴格的質量控制和測試標準。RUDOLPH NSX 105 Mask&Wafer Inspection Machine內置了一個專利超對比度超敏(UCH)成像模塊,能夠增強檢查樣品的圖像對比度以提高清晰度和分辨率。此外,該資產還有一個高分辨率成像工具,能夠對掩模和晶圓圖像進行在線檢查。此外,NSX 105掩模和晶圓檢驗模型還配備了微型分配設備,能夠以受控方式自動向樣品表面分發感光材料。這種微分配系統保證了大尺寸、各種形狀的樣品可以快速準確地進行檢測。RUDOLPH/AUGUST NSX-105 Mask&Wafer檢查組還采用了高級圖像處理和軟件算法,用於高密度缺陷檢測和分析。這些算法基於傅立葉分析和其他現代測量技術,它們能夠以最高的精度捕捉檢查中最微小的變化。此外,機器還能夠檢測和糾正錯誤,如圖案不對齊或幾何變形。此外,RUDOLPH/AUGUST NSX 105掩模和晶圓檢查工具設計用於極端環境條件,如低溫或高溫、濕度和碎屑。它還能夠高速執行缺陷檢查,並為極端環境條件配備了廣泛的光學濾鏡和光源。該資產還具有集成的報告生成工具,用於創建缺陷檢查的詳細報告,以及圖形用戶界面(GUI),以便於操作。該模型的設計成本效益高,運行成本低,同時提供卓越的性能和可靠的結果。總體而言,RUDOLPH NSX 105面膜晶片檢驗設備是在各個行業進行高精度面膜和晶片檢驗的強大而可靠的工具。它是任何企業在檢查過程中重視準確性、精確度和生產率的必備產品。
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