二手 RUDOLPH / AUGUST NSX 90 #9175960 待售

RUDOLPH/AUGUST NSX 90掩模和晶片檢查設備設計用於檢測、隔離和測量半導體器件上存在的關鍵缺陷。該系統由一臺最先進的遠程中心顯微鏡、一個精密晶圓級和四臺攝像機組成，包括兩臺高分辨率CCD攝像機和兩臺紅外探測器。該設備能夠掃描放大倍數範圍內的大面積區域,從而實現覆蓋整個晶片表面的高級檢查功能。使用高分辨率CCD相機，AUGUST NSX 90能夠檢測和隔離極小的缺陷，如斷線、模具裂紋和多孔，精度和精度都很高。該機還具有自動光學識別工具，利用專有算法準確定位和分類缺陷。一旦發現缺陷,資產就可以使用CCD攝像機生成缺陷的結構、大小、形狀和晶圓位置的詳細圖片。RUDOLPH NSX-90 Mask&Wafer Inspection Model設計為使用兩個紅外探測器執行先進的多參數檢測。該設備能夠對微粒和汙染物進行準確、精確的檢測和分類。利用復雜的算法，系統能夠識別復雜的粒子並按大小、材料類型和其他光學參數進行分類。此外,該單元還可以利用其板載圖像處理和分析功能檢測和隔離關鍵缺陷和屈服限制性顆粒。此外,NSX-90 Mask&Wafer Inspection Machine可以提供掃描完成後缺陷性能的詳細分析。高級圖像分析工具計算平均缺陷大小、缺陷密度和屈服。該資產還能夠計算平均粒徑、3D地形和缺陷掩碼。該模型還可以自動生成詳細的測量報告，使工程師能夠快速準確地分析其檢查結果。NSX 90 Mask&Wafer Inspection Equipment是半導體工業必不可少的工具。通過使用先進的成像、分析和報告工具提供詳細而準確的檢查功能,系統確保工程師掌握開發和改進其半導體器件制造過程所需的信息。