二手 SDI CMS III-A #9045538 待售

SDI CMS III-A是一種用於晶圓和半導體掩模模式高速、高通量分析的掩模和晶圓檢測設備。該系統采用最先進的自動掃描設備,分辨率為250 nm,用於測量和評估晶片和掩模上的結構以進行缺陷分析。它的檢查能力為用戶提供了一種快速、準確、可重現的檢查，可以檢測和分析各種類型的缺陷，包括光刻錯誤、稀薄的口罩、通過特征丟失以及汙染。該機器由四個主要組件組成：光源、照明晶片、圖像傳感器和連接到顯示器的計算機。光源是兩種紫外線激光器的組合，可提供精確成像的單色照明；一種液晶顯示器，可最佳地引導激光，並最大限度地減少設備受到輻射熱的照射；一種衍射光學元件（DOE），它增加了工具的視野，減少了分析所需的圖像數量。照明晶片放置在液晶屏上方，使目標結構暴露於激光，然後由CMOS圖像傳感器檢測到。圖像傳感器能夠解析小至250 nm的結構,並對圖像進行采樣並將其發送到計算機進行分析。資產中的復雜處理算法允許在幾秒鐘內捕獲和分析圖像。它旨在檢測任何類型的缺陷，包括缺失特征、結構不規範、劃痕、汙染等等；並生成全面的報告,以便工程師能夠快速排除任何問題。計算機還連接到顯示器,該顯示器顯示捕獲的圖像以及模型收集的所有數據。這種掩模和晶片檢驗設備建議用於半導體行業的任何制造工廠和實驗室設置，為用戶提供高速、快速、準確地檢測晶片和掩模的能力，同時利用高度先進的分析算法檢測缺陷。該系統設計易於使用，能夠對晶片和掩模結構進行快速、準確的檢查和分析。