二手 SDI CMS III-AR #9152693 待售

SDI CMS III-AR是具有先進成像、分析和報告功能的最先進的掩模和晶圓檢測設備。利用平均矢量差（AVD）算法，這是一種基於幾種不同成像技術的先進檢測算法，可以快速檢測和定位掩模和晶片上的缺陷。該系統具有一個自上而下的激光投影模塊，在直徑可達300毫米的掩模或晶圓樣品上運行，分辨率為5 µm。設備的成像組件提供了更高的精度和分辨率來檢測細微的缺陷，如線寬變化或橋接。通用的分析工具可以檢測和糾正缺陷。掩碼和晶圓輪廓及叠加配準、自動缺陷形狀分析和缺陷種子分析都是內置功能。單元上的舞臺能夠處理重載，可用於大面積成像。它還結合了高分辨率編碼器，以實現更高的舞臺定位精度。提供多種配置,最多可配備三個用於RGB成像或多光束激光光源的攝像頭,以提高精度。計算機控制的光學機器校準光束和照相機，以獲得最佳的成像和測量性能。該工具的軟件提供了復雜的圖形用戶界面,能夠比較和同步多個圖像和圖形。它還支持廣泛的數據交換和存儲格式。圖像分析和報告功能高度可定制,具有可定制的源和模塊化分析工具。高級報告功能可為所有類型的缺陷檢測和測量提供快速輕松的數據輸出。CMS III-AR是一種高度通用的資產,適用於各種生產環境。其獨特的功能集提供了在當今先進的生產環境中提高產量的經濟高效的方法。憑借其先進的功能,它保證了最佳的工藝性能,並確保了卓越的產品質量。