二手 SEMITEST Epimet II #9104044 待售

SEMITEST Epimet II是由SEMITEST Corporation開發的尖端掩模和晶圓檢測設備。這一革命性的新系統旨在為其部門提供最高水平的速度、準確性和敏感性。該單元使用光學耦合信號采集機，以確保明顯的光學清晰度。這使Epimet II能夠以卓越的速度和精度檢查各種形狀、大小和厚度的掩模和晶片。使用該工具的深聚焦光學器件,即使在更高的放大倍率下,激光銳利的分辨率也是可以實現的。資產中采用的高級圖像分析算法為用戶提供了詳細的圖像，並深入了解了掩碼和晶圓缺陷。與傳統方法相比，這種方法能夠對缺陷進行微觀分析，精確度極高。如果需要,可以幾種格式導出此分析的輸出以進行進一步分析。SEMITEST Epimet II還能夠高速掃描大面積的口罩和晶片。這意味著模型可以快速檢查大面積區域，並檢查汙染物、裂縫和其他損壞等任何問題。掃描和分析過程可以自動化，提供一個完全精簡的設備，用戶輸入最少。系統中還裝有自動故障檢測和警報系統,確保快速識別和標記異常。這意味著可以快速發現任何潛在問題,從而提高流程效率和可靠性。總體而言，Epimet II是一個高度先進和強大的掩模和晶圓檢測單元。它的一系列特性和功能為用戶提供了無與倫比的速度、準確性和可靠性級別,使其成為任何需要高精度分析的實驗室或生產環境的絕佳選擇。