二手 SII NANOTECHNOLOGY / SEIKO XVision 200TB #9240326 待售

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ID: 9240326
Defect inspection system Triple beam FIB: Resolution: 4 nm at 30 kV Acceleration voltage: 0.5 ~ 30 kV Maximum probe current: 90 nA Maximum probe current density: 45A/cm² Argon: Resolution: 3 nm at 5 kV Acceleration voltage: 1 ~ 30 kV SEM: Acceleration voltage: 0.5 ~ 1 kV Maximum beam current: 10 nA EDS Specification: AZTec Energy Standard micro-analysis system With X-MaxN 80 large area analytical silicon drift detector Hardware includes: X-MaxN 80 SDD Detector with PentaFET precision Active area: 80 mm² Resolution guaranteed on Mn K - 127eV at 50,000 cps SATW Windows for detection of elements from beryllium MicsF+ Microscope image capture system X-Stream 2 Micro-analytical pulse processor PC Operating system: Windows 7 Widescreen LCD display, 23" Aperture: 1 Accelerating voltage: 3 kV Beam current: ~210 pA (3) Separate beams: High resolution FE-SEM imaging Precision FIB milling Ultra high resolution TEM imaging: Low energy Ar polishing to minimize sample damage FIB-SEM-Ar beams: Coincident eliminating need for sample movement between beams FE-SEM Monitoring.
SEIKO X Vision 200TB面膜和晶片檢測設備是一種最先進的技術,具有高分辨率、高吞吐量和高精度。該系統非常適合先進的微電子、醫療和平板顯示器應用。SII NANOTECHNOLOGY X Vision 200TB單元擁有4000像素分辨率CCD相機和內置的大功率照明機。這允許在所有工作方向上進行高定義的圖像捕獲,並對任何缺陷和其他特性進行高質量的成像。該工具還具有SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO獨有的自動對焦技術,可快速高效地提供準確、高清的圖像。這允許用戶通過進行現場檢查和拒絕來降低成本並提高口罩和晶片的質量。檢查資產還具有符合人體工程學的設計和直觀的用戶界面。這允許高效、方便的工作流。該模型具有強大的圖像處理設備,可自動檢測和校正掩模和晶片中的缺陷。此外,它還具有高級缺陷庫,其中包含多種缺陷類型,以便於檢測和分組。SEIKO X Vision 200TB面罩和晶片檢查系統以其易於使用的軟件和用戶友好的命令為最高效率而設計。該單元提供高性能和一系列用於數據分析、報告和歸檔的強大工具。其先進的缺陷分類功能使其成為數據挖掘和缺陷分類的理想選擇。該機配備了一系列可定制的圖像增強工具,以提高圖案可見性。它還具有硬拷貝報告和數字存檔功能來記錄調查結果。此外,SII NANOTECHNOLOGY X Vision 200 TB的可自定義數據分析功能使用戶能夠快速準確地分析和存檔數據。總體而言,SII NANOTECHNOLOGY/SEIKO X Vision 200TB面罩和晶圓檢驗工具提供了無與倫比的質量和準確性,可用於可靠的質量保證和電路模式的檢驗。該資產為滿足先進半導體和醫療設備制造工藝的嚴格公差提供了經濟高效的解決方案。該模型具有很高的分辨率、吞吐量和準確性,非常適合任何復雜的掩模和晶圓檢測應用。
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