二手 SVG / PERKIN ELMER / BSL OS 2000 #9162533 待售
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ID: 9162533
晶圓大小: 2"-4"
優質的: 2011
Projection mask aligner, 2"-4"
BETA SQUARED Control system
Single windows based object-oriented computer
BSL Automatic helium regulator
Manuals
Resolution:
Lines spaces: 1.25 µm
UV-4 (340-440 nm)
Throughput: (120) Wafers per hour, 125/100 mm system
Depth of focus: ±6 µm For 1.5 µm Lines and spaces
Focus stability: ±2.0 µm Over 6 days
Focus range: ±200 µm ±450 µm With extended bellows chuck
Partial coherence: Variable, 0.37 - 0.86
Numerical aperture: 0.167
Uniformity of illumination: ±3.0%
Particulate generation:
(7) Particles per wafer pass (1.0 µm / Larger)
Pre-alignment: 600 Style
First-level placement accuracy: ±15 µm
Wafer / Substrate sizes: 2"
Standard: 4"
2011 vintage.
SVG/PERKIN ELMER/BSL OS 2000是一種為工業用途而設計的掩模和晶圓檢驗設備。該系統執行各種光學測量，如特征和掩模缺陷識別、質量控制和生產監控等等。該單元由幾個組件組成，包括顯微鏡和數碼相機、計算機接口、光譜平移階段和光源。機器的顯微鏡設計為提供晶圓或掩模的高分辨率、高對比度圖像。它配有數碼相機，用來捕捉晶圓或掩模的圖像並儲存在電腦上。用顯微鏡，可以準確地檢測到小的缺陷和特征。光譜平移階段提供運動，以便可以檢查整個晶片或掩模。這樣可以更精確地檢查大面積區域,並更好地比較不同的圖像。光源在分析過程中照亮晶片和掩模，從而獲得高對比度圖像。計算機界面允許在分析之前將數據導入SVG OS 2000。這允許圖像比較和自動缺陷檢測和分類。軟件中加載了各種工具來幫助處理過程，例如用於比較多個圖像的直方圖、自動缺陷檢測算法以及用於分析的各種其他工具。使用此軟件,可以確保準確性和速度。最後，該工具可以連接到各種其他的SVG儀器以獲得額外的功能。這些包括FIBs（聚焦離子束顯微鏡）、CVD/PVD系統（化學氣和物理氣相沈積系統）以及清潔工具。所有這些都可以用來確保表面均勻並檢測晶圓或掩模上可能存在的任何缺陷。BSL OS 2000是執行高分辨率掩碼和晶圓檢查的綜合資產。它非常容易使用，可以適應許多不同的工業和研究要求。該模型具有強大的顯微鏡、光源、光譜平移階段、數碼相機和軟件，能夠快速、準確地檢測出眾多缺陷和特征。
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