二手 VISTEC LWM9000 #293589506 待售

VISTEC LWM9000是一種綜合性的掩模和晶片檢查設備,設計用於生產和實驗室環境中的光掩模或大型晶片的自動化分析。憑借其創新的光頭設計，LWM9000掩模和晶圓檢測系統能夠提供高達0.35微米的分辨率，從而能夠對關鍵特征進行詳細的分析和測量。該設備采用先進的成像技術來識別蒙版和晶片表面的缺陷、變形和其他異常。VISTEC LWM9000配備了三個光學傳感器--CD-SEM（掃描電子顯微鏡）、CD-AFM（原子力顯微鏡）和分層單原子計量--它們可以高精度地集體評估掩模和晶圓模式。對於CD-SEM成像，該設備能夠獲得三種不同放大倍數的圖像，範圍從0.25到0.35微米。CD-AFM功能提供了對薄膜、導體結構和半導體層的快速準確的測量。分層的單原子計量功能允許用戶以超過90%的精度檢測結構上盡可能小的結構。LWM9000提供了可擴展的用戶定義的光掩碼模式,並包括直觀的圖形用戶界面。這樣可以快速準確地測量和集成特定於客戶的模擬和掩碼布局數據。該設備還提供用於快速聚焦定位的自動化階段控制,從而能夠快速高效地分析大型或分段數據集。它具有自動運動多功能性,允許對掩模或晶片進行多次定位和連續掃描,甚至在平面內或跨多個平面進行掃描。VISTEC LWM9000為用戶和開發人員提供了功能強大但易於使用的軟件。該軟件為生產和實驗室檢查提供了一個通用和用戶友好的環境，允許用戶定制機器並執行自動對準檢查和采購。它還提供專家註釋、修補程序分析以及高級腳本命令和批處理功能,從而提供高效、準確的操作。此外，該設備還有一個集成數據庫，允許用戶存儲、檢索和比較掩碼和晶圓數據。總之，LWM9000是一種先進的檢測工具，采用最新的成像和計量技術設計。它是生產和實驗室用途的絕佳選擇,提供先進的成像能力和自動化功能,可快速準確地分析光掩模或晶片。該設備還具有高度的用戶友好性,允許對大型或分段數據集進行自定義和專家分析。