二手 XENOGEN IVIS 200 #141433 待售

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ID: 141433
Imaging system Imaging pixels: 2048 x 2048 Quantum efficiency: >85% 500-700 nm; >50% 350-950 nm Pixel size: >13.5 µm square Minimum detectable radiance: Minimum image pixel resolution: 60 µm (at f/1) Read Noise: Dark Current (typical): Filter Slots: Fluorescence excitation 25 mm diameter 12-position (11-filter capacity) Fluorescence emission 60 mm diameter 24-position (22-filter capacity) Stage temperature: Ambient to 40°C scanning laser.
XENOGEN IVIS 200是一種用於生產級半導體制造和材料表征的掩模和晶圓檢測設備。它采用無失真光學、舞臺安裝自上而下的成像系統,可提供高達200倍的放大倍率。該單元的變焦光學支持高長寬比、非常小的臨界尺寸和超低缺陷級別的測量。此外,IVIS 200還將最新的成像技術和自動化的過程控制集成到一臺易於使用的機器中。XENOGEN IVIS 200具有高達200毫米的全場測量範圍,正常場大小為50毫米。它的高分辨率LED照明還允許整個領域清晰的清晰度和圖像的均勻性。IVIS 200能夠以高達50納米的分辨率捕獲圖像,輕松解決缺陷和更精細的結構。該工具支持多種成像模式,包括亮場、暗場、邊緣檢測、傾斜照明和光學復制。XENOGEN IVIS 200還加入了先進的圖像處理軟件,這有助於識別和測量制造商指定的圖樣缺陷。資產可以自動識別這些缺陷,從而可以在自動測試程序中使用。此外,IVIS 200包括一個健壯的自動化模型,為多階段過程控制、吞吐量優化和動態故障檢測提供支持。此自動化功能可降低制造成本並提高產量和吞吐量。最後,XENOGEN IVIS 200附帶了一套完善的先進軟件功能,以提高測量精度和控制。這些功能包括圖像捕獲配置文件、圖像識別設置、數據分析統計信息、自動化過程控制和報告功能。軟件可配置為提供定制的結果,可用於質量控制和改進目的。用戶界面直觀且配置性強,設備兼容多種語言選項,包括英語、中文、日語和韓語。綜上所述,IVIS 200是一種先進的掩模和晶圓檢測系統,旨在改進半導體的制造和材料特性。它具有一個無失真的光學、舞臺安裝的自上而下的成像單元,能夠捕捉分辨率高達50納米的圖像。它還包括用於優化吞吐量和檢測故障的高級圖像處理軟件和強大的自動化功能。該機有助於提高半導體生產質量控制,提高生產效率。
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