二手 ZEISS AIMS Fab 193 Immersion #9221855 待售
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ID: 9221855
晶圓大小: 6"
優質的: 2005
System, 6"
Laser to be replaced
Laser gas manifold to be replaced
2005 vintage.
ZEISS AIMS Fab 193 Immersion是一款先進的高級面罩和晶圓檢測設備。它使用193nm浸入式ArF激光源，能夠檢測直徑達200 mm的晶片，最大晶片曝光量為16mm。其先進的圖像處理算法能夠快速準確地分析各種材料和光掩模缺陷的設備性能。AIMS Fab 193 Immersion包含了幾個特性，使得它在晶圓檢測市場上無與倫比。其最大256 kV的加速電壓，使得設備特性的納米分辨率高度精確成像。它還能夠以64X放大倍數和詳細的基於模式的計量來查看密集的線型。此外,它的深度聚焦（Defth Of Focus, DOF）技術允許在同一層的不同深度對晶片進行檢查,從而更深入地了解設備結構。除了先進的成像能力外，蔡司AIMS Fab 193 Immersion還提供強大的工藝控制功能。通過其軟件界面，用戶可以控制系統的曝光時間、聚焦深度、加速電壓等過程參數。此外，它的單元內3 D自動對焦算法允許機器對焦於不同的目標層。AIMS Fab 193 Inmersion將這一自動聚焦功能與其最先進的圖像處理算法相結合,快速準確地定位了產品中的缺陷和異常。最後,ZEISS AIMS Fab 193浸入式工具的設計考慮到了易用性。其巨大的查看屏幕使用戶界面的導航更加方便,示例的可見性也更高。其觸摸屏控制面板支持用戶定義算法、模式匹配和實時成像等高級功能，可快速高效檢查。總體而言,AIMS Fab 193浸入式資產提供無與倫比的圖像分辨率、先進的過程控制功能和易用性。它的特點使得它非常適合以高精度檢查晶片和光掩模，同時提供對設備性能的全面洞察。
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