二手 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249419 待售

ZEISS/HSEB ZML-200是業界領先的口罩晶片檢測設備,在半導體器件制造這一具有挑戰性的領域提供卓越的性能。系統每小時吞吐量高達200晶圓,可有效地處理大批量生產運行的檢查。HSEB ZML-200利用高分辨率CCD攝像機掃描每一個掩模或晶片，尋找制造過程中可能沒有註意到的任何缺陷。利用內置缺陷檢測算法和自定義的用戶界面，該設備可以快速識別屏蔽或晶片中最小的缺陷。該機器還被設計為易於使用和快速行動，允許用戶對被檢查的掩模或晶片進行快速準確的診斷。為進一步提高刀具的速度和精度，該資產配備了先進的高精度對焦控制模型。這種設備快速專註於掩模或晶片的任何特性，允許快速的點對點或區域對區域的檢查。該系統還具有測試多種半導體器件配方的能力，以確保最大產品產量。通過監視復雜的金屬和絕緣層網絡,設備能夠檢測到各種缺陷,包括線寬變化、短褲、打開、隔離缺陷和覆蓋。該機器還具有許多自檢功能,確保任何維護工作都能正確完成。最後，蔡司ZML-200配備了眾多的軟件選項，允許用戶自定義其操作。利用內置缺陷分析軟件，用戶可以記錄和存儲檢查中的數據。此外,該工具還配備了模式識別優化軟件,以便資產能夠根據用戶輸入不斷地學習和修改其篩選設置。總之,ZML-200是一種業界領先的面膜和晶片檢驗模型,旨在最大程度地提高生產產量、降低成本並減少用於面膜或晶片檢驗的時間。ZEISS/HSEB ZML-200具有高分辨率CCD成像、定制的用戶界面以及尖端缺陷分析和模式識別優化軟件等頂級功能,是任何半導體器件制造設施的理想選擇。