二手 ZEISS / HSEB ZML-200 #9249420 待售

ZEISS/HSEB ZML-200是一種用於精密掩模和晶片檢測的掩模和晶片檢測設備。它利用光學元件和彎曲標線之間的獨特間隙來實現精確對準和出色的圖像分辨率。HSEB ZML-200通過業界領先的暗場傳感器模塊和專利算法提供高速和高分辨率成像,使其能夠檢測和測量太小而無法通過其他檢查系統看到的缺陷。該系統由一個標線、一個暗場成像相機和一個光源組成。標線由一個中央環和兩個連接到可調標線支架的可調臂組成。這允許用戶精確配置檢測光學器件的位置，以確保高質量的圖像。暗場成像相機配有一個外部CCD圖像傳感器和一個內部視場，允許對測試的掩模或晶片進行廣泛的觀察。這使得設備能夠檢測到最小的缺陷。該光源采用熒光和紫外線照明的獨特組合，設計用於最大程度的照明。這樣可以確保整個區域的照明均勻,同時提供均勻且最佳的亮度。此外,特殊的數字成像功能允許機器捕獲甚至最復雜的細節,例如低於人眼閾值的缺陷。蔡司ZML-200可以檢查各種口罩和晶片。它可以用於各種檢查類型，如光罩、晶圓和臨界尺寸（CD）測量。該工具配備了必要的軟件，以協助用戶進行檢查過程和數據收集。該資產與直觀的軟件界面非常容易使用，其直觀的用戶界面允許對數據進行高效的分析和解讀。ZML-200是進行掩模和晶片檢查的理想工具。該模型提供了無與倫比的精確度、高速和精確的成像，以及用於有效缺陷檢測的復雜算法。其直觀的用戶界面和先進的軟件工具使其成為一種可靠、高效的掩模和晶圓檢測工具。