二手 LAM RESEARCH EP 200MMD #9141883 待售

LAM RESEARCH EPM 200MMD是設計用於微電子工業晶圓制造的高精度光學比較器。比較器是一種多軸光學測量儀器，能夠精確測量半導體晶片制造過程中的關鍵表面特征。它與高效、高精度的旋轉表相匹配,便於精確和可重復的X、Y和Z軸測量。比較器由用於測量和視覺系統的高質量光學橋式光學器件組成，提供卓越的精度和分辨率。比較器的精密光學結合了圖像投影、背面背光和圓形圖，便於讀取和平穩操作。橋式光學器件能夠從4X放大到400X,真正的測量能力從0.5 µm到1500 µm。光學數字視頻接口確保了測量的可重復性，允許快速調整圖像對比度、亮度、清晰度、曝光和放大倍率。比較器還提供視頻捕捉和實時圖像，以確保對日益復雜的表面特征進行高精度測量。LAM Research比較器利用一個集成的參考光學系統來增強光的均勻性和最大限度地減少光學像差。這有助於確保可靠和可重復的測量,並為定位目的提供可靠的參考。比較器還配備了一個先進的測量軟件包，允許用戶預先編程測量和自動化例行任務。此外，軟件包還包括功能強大的功能，使用戶能夠直接從數字圖像中測量和檢查晶片的復雜表面特征。LAM RESEARCH EPM 200MMD采用堅固耐用的車身結構,性能可靠,使用壽命長。該比較器是為便於使用而設計的，適用於檢查平坦曲面和彎曲曲面。它配備了廣泛的配件，為用戶提供了對晶圓進行專業級質控檢查的高效手段。光學比較器的設計是為了在生產環境中承受嚴格的測試和校準要求，以確保晶圓表面光潔度滿足屈服要求。