二手 BENTELER tecWasher 10/2c #9219620 待售

BENTELER tecWasher 10/2c
ID: 9219620
優質的: 2013
Horizontal glass-plate washing machine Pre-spraying area top and bottom: Includes: Tank & pump (2) Washing-sections with cylindrical brushes (2) Tanks with pumps and heating elements (2) Pairs of air knifes Water-guidance standard via cascade Motor-driven adjusting of glass thickness via control panel Short space saving design Transport system drive (frequency controlled) Fan with noise insulation Automatic throttle flap Air filter EU 5 Fan-platform Infeed and exit conveyors Maximum width of glass-plate: 1000 mm Minimum width of glass-plate reference edge: 50 mm Minimum length of glass-plate reference edge: 148 mm Glass-plate thickness: 1.5-12 mm Noise level: 80+2 dB (A) Conveyor speed (depends on glass thickness): 3 - 13 m/min RPM Brushes: 600 U/min 2013 vintage.
BENTELER tecWasher 10/2 c是一種先進和創新的晶圓加工設備,具有清洗器和自旋烘幹機模塊,用於晶圓加工後的清潔和幹燥。該系統專為半導體制造業而設計,為大小晶片提供批量和直列式處理。該設備配備了等離子體和蒸氣相位技術(PVPT)清潔技術,為在低溫/中溫下清除汙染物提供卓越的清潔性能。PVPT技術在40-60°C的溫度下清除顆粒、異物和殘留物,確保操作安全,不會損壞晶片。這樣可以對晶片表面進行濕法和幹法預處理,最適合低成本操作,同時優化能效和縮短周期。BENTELER tecWasher 10/2 c在一個外殼中具有兩個獨立的墊圈,每個墊圈都有自己獨立的工藝室和PVPT清洗功能。這不僅可以同時清洗大小晶片,還可以提高機器的生產率。可選的直列自旋烘幹機模塊提供了更好的顆粒去除效率以及可根據特定晶圓尺寸量身定制的烘幹機循環。該工具的緊湊設計帶有可選的集成流程線控制,可集成到現有的清潔室環境中。觸摸屏和PLC面板使用戶能夠輕松地進行控制,可以根據特定的流程要求進行編程。綜合預防性維護群集通過提供專門的「洗滌和自旋幹燥」服務方案確保最高質量的清潔,在必要時更換消耗品。最後,數字數據記錄資產將所有關鍵操作參數存儲在中央數據庫中,以進行安全訪問和監視。這允許跟蹤和詳細分析流程周期性能,從而允許進一步優化流程或診斷操作問題。總體而言,BENTELER tecWasher 10/2 c是高效晶圓處理的強大模型,提供卓越的清潔性能、優化的工藝時間和高效的工藝管線控制。它在一個緊湊的和集成的設計特點的組合,使其最適合於半導體和晶圓相關的處理。
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