二手 GREATSENSE GS-AIR-30 #293670976 待售

GREATSENSE GS-AIR-30是一種先進的基於等離子體的晶圓處理設備,專為廣泛的應用而設計。其獨特的設計特點是高真空室配有獨特的感應耦合射頻（RF）源模塊以及先進的電子回旋共振（ECR）源，用於將不同的蝕刻/沈積過程集成在一個平臺上。該系統為半導體和MEMS技術提供了高質量的處理解決方案。GS-AIR-30單元能夠提供高速、低溫（<300 °C）的處理,並具有具有單個射頻（RF）源的大動態等離子體參數範圍。具有良好的基板溫度均勻性和高加工均勻性，在多種基板上使用壽命長。這使用戶能夠為更復雜的3D應用程序獲得更好的收益。高真空室是為便於清潔和維護而設計的，能夠處理最大直徑300毫米的基板，如矽片。工藝氣體可以用雙極或單頻射頻控制，隨後使用ECR波在腔室中擴散。射頻源可以產生範圍廣泛的射頻頻率，範圍從低頻（50 kHz）到高頻（10 MHz）。該機器可支持單室和多室操作，並提供多種腔室選項，以滿足特定的客戶需求。刀具控制軟件提供了幾個功能來保證用戶友好的操作，包括自動晶片傳輸、自動晶片加載/卸載、溫度控制、背面冷卻以及晶片逐個晶片過程監控。該資產還包括一個可選的射頻屏蔽以及獲得專利的ECR監測軟件，用於在薄膜沈積和蝕刻過程中進一步監測等離子體參數。GREATSENSE GS-AIR-30通過最領先的國際安全標準認證，包括NFPA-70E（國家認可的測試實驗室（NRTL））、ANSI/UL-1300（Underwriters Laboratories Inc.）和其他標準。它可用於一系列過程，包括：幹蝕刻、剝離、等離子體增強化學氣相沈積（PECVD）、原子層沈積（ALD）、濺射和離子植入底物。這種廣泛的應用及其高度的自動化使GS-AIR-30成為半導體和MEMS行業各種應用的先進且經濟高效的解決方案。