二手 KINETICS MegaFlow II #9160832 待售

KINETICS MegaFlow II是一種最先進的半自動晶圓加工設備，非常適合光刻、蝕刻、金屬化、退火、電鍍、擴散、清潔和組裝等溫度控制過程。該系統采用直觀的界面和強大的處理器,旨在提供流暢高效的工作流程,同時盡量減少人工幹預。該設備采用流線型平臺設計,便於晶圓處理和盒式磁帶操作,從而縮短周期時間並提高吞吐量。它能夠支持多達4個7英寸6英寸或8英寸8英寸晶片托盤,並且一次運行最多可容納80個晶片。該計算機還通過可現場更新的標準配置提供了高度的靈活性。MegaFlow II配備了精密的傳感器和用於溫度均勻性和過程控制的閉環反饋平臺。它的模塊化設計允許在晶圓逐個晶圓的基礎上進行高水平的過程定制，還提供了更高的準確性、可重復性和魯棒性。通過進程內腔室通信，工具自動檢測、存儲和調整每個腔室的過程控制輪廓，提供無與倫比的均勻性。該資產還進行了量身定制，以最大限度地提高晶圓級汙染並將其保持在最低限度。KINETICS MegaFlow II憑借其潔凈的內部空間和非易失性內存,非常適合超精度光刻。還包括一個集成軟件包，它提供模型控制、數據采集、過程優化和基於時間的配方管理。使MegaFlow II與其他處理系統脫穎而出的是其環保設計。該設備具備低功耗認證,通過控制關鍵參數並通過可調整的警告/警報單元監控所有系統參數,還可以消除熱失控的潛在風險。該機還設計為與各種液體和氣體兼容，實現了最佳、可重復和安全的性能。最後,KINETICS MegaFlow II是當今最苛刻的溫度控制過程的理想解決方案。由於其創新的設計、快速的周期速率和可定制的配置,該工具能夠提供可靠、安全和最佳的結果,從而提高了生產效率並提高了資產性能。