二手 OERLIKON / BALZERS Vacuum chamber #293812085 待售
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ID: 293812085
Vacuum chamber
Used for ion milling
Busch dry pump
Leybold 2200 CT Turbo pump with Mag Drive controller
MKS Type 247 four-channel controller
(4) 20 Standard Cubic Centimeters per Minute (SCCM) MKS Mass Flow Controllers (MFCs)
22 cm Plasma Process Group (PPG) linear ion source (3-grid)
Ion neutralizer
I-beam power supply, Radio Frequency (RF) match
Radio Frequency (RF) tuning box
Ion probe with graphite block and drive motor
(4) Individual pressure gauges.
BALZERS是一家有信譽的公司,專門研究先進的真空塗層技術,其OERLIKON/BALZERS真空室設備設計用於晶圓加工應用。該系統在半導體工業中起著至關重要的作用,使薄膜在晶片上的精確沈積能夠增強其性能和功能。在此全面的技術概述中,我們將深入探討為晶圓加工量身定制的BALZERS真空室的關鍵特性、規格和優點。OERLIKON Vacuum Chamber的設計采用了最先進的技術,以滿足現代晶圓加工要求的嚴格要求。腔室由高質量的材料構成,在塗層過程中保證高真空完整性和熱穩定性。其創新的設計最大限度地減少了汙染,並允許在整個晶片表面均勻沈積薄膜,確保了一致的性能和質量。真空室的一個突出特點是其先進的泵送裝置,利用渦輪分子泵和低溫泵來實現精密薄膜沈積所需的超高真空水平。這種高效的抽水機可加快抽水時間,提高整個過程的生產率。此外,該室還配備了先進的壓力監測和控制系統,以確保最佳工藝條件和可重復性。OERLIKON/BALZERS Vacuum chamber的設計可以容納各種晶圓尺寸和配置,使其在半導體工業的不同應用中用途廣泛。其靈活的設計允許與其他晶圓加工設備(如濺射和蝕刻系統)輕松集成,創建一條全自動生產線。該室的用戶友好界面和軟件控制工具為操作員提供了直觀的控制和監控能力,便於設置和調整過程參數。除了技術能力外,BALZERS真空室還提供了一系列有助於其整體價值主張的好處。資產的高吞吐量和高效的過程控制有助於降低生產成本和提高收益率,使其成為高容量晶圓處理的經濟高效的解決方案。其先進的自動化功能最大程度地減少了操作員的幹預,降低了人為錯誤的風險,確保了一致和可靠的性能。此外,OERLIKON真空室的設計考慮到了安全和環境方面的考慮,其中包括廢氣處理系統和節能組件等特點,以盡量減少對環境的影響。OERLIKON對可持續性的承諾體現在其真空室的設計和操作上,使其成為半導體制造商努力減少碳足跡的負責任選擇。總體而言,OERLIKON/BALZERS Vacuum Chamber是晶圓處理應用的前沿解決方案,提供卓越的性能、靈活性和效率。其先進的技術、可靠的操作和經濟實惠的優勢,使其成為希望提高生產能力、在晶片上實現更高質量薄膜塗層的半導體制造商的理想選擇。憑借OERLIKON/BALZERS的專業知識和支持,客戶可以信任BALZERS真空室的可靠性和性能,以滿足其最苛刻的晶圓加工要求。
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