二手 ADVANCED VACUUM SYSTEM DPS-2 #9078812 待售

ADVANCED VACUUM設備DPS-2是一種先進的多功能等離子體蝕刻/沈積系統。用於在高真空環境下將薄膜蝕刻沈積在基板上。該單元采用基於站的結構，使用兩個獨立的腔室允許雙重操作。標準型號包括感應耦合等離子體源、真空前室、帶氙氣給藥閥的渦輪分子真空泵、柔性驅動機構和可自由配置的工藝室。真空前廳設有兩個大閘門，一個蒸發源，一個石英晶體微天平。渦輪分子泵允許高真空操作，而氣體劑量閥為用戶提供對氣體負荷的精確控制。驅動機構可實現堅固、低振動的定位,模塊化設計可確保機器易於擴展和升級。工具的中心心臟是感應耦合等離子體源（ICP），用於產生類似火焰的火焰來蝕刻或覆蓋基板。該ICP設計為提供高度均勻的等離子體沈積，具有良好的可重復性，以提供一致的薄膜質量。ICP的功率水平範圍很廣，可調1至3千瓦，適合多種應用。它安裝在具有高度可調氣體入口和出口的堅固框架上，使用戶能夠準確控制過程變量。工藝室用三個真空密封密封。配備50毫米石英窗、真空閘閥、集成加熱器。石英窗口提供了對工藝室的視覺訪問，而閘閥維持了工藝室的內部壓力。內置加熱器提供塗層和蝕刻工藝所需的熱能。DPS-2設計用於廣泛的應用。適用於超高真空應用，以及高通量、工業級的生產工藝。它能夠生產出優質的薄膜，具有極好的均勻覆蓋和可重復性。資產與一系列基材兼容，如晶圓、陶瓷、塑料等材料。它還能夠進行多次蝕刻循環,結果一致。總體而言，ADVANCED VACUUM Model DPS-2是一種功能強大、用途廣泛的等離子體蝕刻/沈積設備，適用於廣泛的應用。它提供了出色的均勻性和可重復性，並被證明是可靠和高效的。該系統強大的設計和易於擴展,是工業、生產級別流程的理想選擇。