二手 KLA / TENCOR 1201 #9122036 待售

KLA/TENCOR 1201是一種高性能、自動化的prober，用於對半導體晶片或芯片上的金屬化圖樣、光刻和氧化物/聚酰亞胺層進行精確映射和計量。為準確的缺陷分析和過程控制提供了準確性和可重復性。標準的KLA 1201具有自動晶片處理程序、具有FastScan探測功能的加載算法級,允許非接觸式探測與光學識別對準。雙級運動機構為大型晶片提供了平穩準確的刀具定位和廣泛的工作×範圍。利用8個探針啟用探針陣列,分辨率為332 x 445 µm,用於超細螺距探針。TENCOR 1201還具有自動化的焦點優化和真實的平坦度測量功能。1201提供了許多功能來提高生產率和吞吐量。視差映射、多層映射和ProbEncoding技術為映射半導體層提供了速度和精度。自動化模塊提供高效的過程執行,結合了高速、工具精度和平滑的平臺運動.CoaXPress CXP4接口最多支持4個攝像頭,用於集成應用程序。此功能允許快速傳輸數據,每個攝像頭的TDI數據速率高達5.0 Gb/s,並且具有高度可配置的系統。KLA/TENCOR 1201配備了許多功能，提供晶圓的精確對齊，確保清晰的圖像質量。先進的SmartAlign TM系統執行高速晶片幾何測量和快速自動對焦,用於晶片和模具基圖檢查。其他功能還包括AutoAlignTM,用於晶圓地形的模具級對齊補償,並提供靈活的平臺以最小化調度時間並降低pri測試成本。MACROTEK傳感器技術可實現模具級精密配準,配準精度為3.3 µm@3 sigma。先進的探頭設計包括單面和雙面接觸臂，多個x-y精細定位階段，以提高吞吐量和測量精度。KLA 1201 prober用於半導體鑄造廠分析晶圓上的微觀元件，也用於業務連續性/災難恢復、光掩模維護、過程控制和故障排除。它非常適合半導體制造,具有提高效率、精度和一致性的特點。