二手 SEMICS Opus II #9242895 待售
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SEMICS Opus II是SEMICS International, Inc.為半導體制造應用而設計的先進探測設備。Opus II是一個靈活、高度自動化的系統,它以非常高的精度提供高級探測解決方案。它具有自動化、高精度的模具和晶圓處理單元,最大工作面積為200 mm x 300 mm。SEMICS Opus II也有一臺高精度的線性級機,用於將探頭跨晶圓移動,以及一臺高性能的主軸電機,用於精密銑削和研磨操作。Opus II能夠探測各種類型的材料,包括鋁、鉛、玻璃和鐵氧體。利用其特殊的操控工具,它可以以高達30mm/s的速度輕松移動高達30磅的載荷。它的緊密公差允許它達到0.2um的分辨率,同時提供高達50牛頓的力。它還包括一個集成的零件檢查軟件工具,它可以通過動態3D視圖深入了解切割過程。SEMICS Opus II具有多項特定功能,旨在最大限度地提高產能和精度。它包括一個集成的視覺資產,可以檢測微缺陷和抄寫不影響過程的線條。它還具有獲得專利的非接觸式電位計,允許用戶進行可調節的接觸,以及用於探測精度的實時反饋模型。除此之外,Opus 2還包括一個機械臂,設計用於支持手動操作的工具。此臂可針對各種工作應用進行調整,並能夠旋轉、選擇、收集和定位工件。機器人手臂由七個關節組成,可達到15m/s的最大工作速度。此外,它還包括一個先進的力管理設備,幫助防止設備損壞在操作過程中.集成的Opus II高級測試/驗證系統提供了一整套基於矢量的、信號分析和視覺診斷。它最多可分析256條路徑,並具有廣泛的示波器、功率譜和邏輯數據分析能力。該單元還包含專門的測試儀器,如精密六英寸探針、精密四英寸探針、高精度線性級以及復雜的邏輯/數據計時器。這臺機器能夠對微米級特征進行精確的測量,還可以分析數據以檢測潛在故障或制造過程中的潛在錯誤。SEMICS Opus II是半導體生產非常有利的工具。既能提高產能和精度,又能提高產量、降低成本。這是由於其自動化的工具、高精度的線性級以及其集成的測試/驗證系統。
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