二手 SEMICS Opus II #9407025 待售

SEMICS Opus II是一種自動化的prober設備，設計用於晶圓探測、元件分選和模具預粘合。它利用機電功能、高精度和自動化的組合，在各種晶圓處理應用中提供可靠和可重復的結果。該系統包括一個基站、一個操作員控制臺和四個定位器，以及獨立的探測/分類/處理室。定位器可容納直徑250至590毫米的晶圓，厚度可達4.7mm，傾斜度和高度可調。它們還可以處理大於物理prober尺寸的晶片，從而可以對可用的最大晶片進行高效探測。基站容納了定位器的垂直和水平運動控制，允許以高達10m/s的速度進行精確的移動和定位。定位器配備了具有實時圖像和缺陷識別功能的CCD攝像頭，以及用於模具對準的激光測距儀。探測單元提供分辨率為0.5um的高精度測量。它配備了雙探頭，允許同時掃描晶片兩側，並將同一個探頭重新用於多個應用。拾取和放置磁帶處理機允許晶圓處理和模具分選。該工具支持廣泛的探針卡配置，包括部分和全柱接觸、標準和標線接觸、3和6接觸、1和2手指以及可編程接觸。使用的桿可以容納不同的角度、寬度和長度，以及變化的接觸力。該軟件允許用戶進行自定義測試程序開發，並支持多種語言，如C、C++和FORTRAN。該資產具有一個多功能的光學、電氣和機械隔離模型，用於噪聲免疫，確保了最高的測量精度。此外，設備本身具有抗振動和抗震性能，適合惡劣的工業環境。總之，Opus II是一個健壯、可靠、可重復的prober系統，具有晶圓探測、元件分選、模具預鍵等一系列特點。它通過機械、電氣和光學功能的組合實現高精度測量,適用於最困難的工業環境。