二手 AG ASSOCIATES 4100 #9146374 待售
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ID: 9146374
晶圓大小: 3"-6"
Rapid thermal processors (RTP), 3"-6"
Includes:
Heating chamber: Two high intensity tungsten-halogen lamp arrays
System controller
Quartz isolation tube
Robot
Gas-control electronics
ULAP Filtration-system
Graphic user interface (GUI) computer system
Electronics
Mass-flow-controlled gas handling
Cooling
ULPA Filtration
Mechanical assemblies
Extended range pyrometer (ERP)
Recipe storage: 3-1/2" Floppy disk-drive
Options:
Non contact wafer aligner
Susceptor autoloader
E-SECS
Slip free
Dual-color pyrometer
Applications:
Silicon dielectric growth
Implant annealing
Glass re-flow
Silicide formation and annealing
Nitridation of metals
Contact alloying
Oxygen donor annihilation
Standard cassettes
Wafer handling: Automatic serial processing
Throughput: Process dependent
Ramp-up rate:
Programmable
Range: 1 – 180°C Per second
Steady-state duration: 1 – 600 Seconds per step
Ramp-down rate:
Programmable
Temperature
Radiation dependent
Range: 1 – 180°C Per second
Maximum: 150°C per second
Recommended steady-state temperature range: 400 – 1200°C
ERP Temperature accuracy: +5°C to -9°C
Calibrated against an instrumented thermocouple wafer (ITC)
Temperature repeatability: + 7°C
Temperature uniformity: + 10°C
Includes: Manuals.
AG ASSOCIATES 4100是為各種處理應用而設計的快速熱處理器。這種最先進的設備設計用於散熱、退火和晶體生長。其溫度範圍從-50C到+800C，樣品足跡高達14 「x 14」，晶圓間距低至2mm。該系統包括一個專有的快速熱傳輸單元（RTTS），具有獨特的熱邊和冷卻片，以確保高溫均勻性和快速樣品傳輸。這臺機器具有強大的控制器和直觀的軟件，能夠輕松編程和高吞吐量操作。它還具有一個大功率紅外燈，允許快速的溫度斜坡和快速循環時間。整個工具被封閉在一個溫度和濕度控制室內，以確保可重復的過程結果。該資產采用不銹鋼加熱元件，並為用戶提供定制加熱配置文件。它還裝有安裝在基板支架上的熱敏傳感器，用於監測樣品的溫度。這允許用戶根據其應用程序的需要定制熱配置文件。4100是為研究、生產和工業而設計的高端車型。它提供了多種不同的應用，包括退火結晶、擴散、擴散屏障沈積和雜質摻雜。也適用於工業爐、回流爐和快速熱閃等應用。總體而言,AG ASSOCIATES 4100是一種針對各種處理需求而設計的先進工具。它提供了一個通用的，溫度控制的腔室和快速熱傳遞設備，允許快速樣品處理。該系統具有直觀的控制器和可定制的加熱配置文件,是滿足各種研究和行業需求的理想解決方案。
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