二手 ALLWIN21 AW B3000 #9201806 待售
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ID: 9201806
晶圓大小: 8"
Plasma asher / Descum equipment, 8"
Production-proven plasma stripper
Consistent wafer-to-wafer uniformity
Main body with wires
Control box
Keyboard, mouse
Transformer, circuit breaker, contactor
Cables
EMO, interlocks and watchdog function
Quartz chamber: Diameter 12” x depth 23”
Main control: PCB and DC
Main body of tools:
RF Match network integrated
Chamber door with quartz plate
Gas and vacuum lines connections
Options:
End-of-process (EOP)
Throttle valve for pressure control
Air-cooled RF generator
Thermocouple: Chamber temperature
Vacuum pump
Lamp tower alarm with buzzer
Main vacuum valve
MKS Baratron
Throttle valve
Touch screen GUI, 15"
High throughput: Up to 75 WPH
Gas Lines: Up to 5 isolated gas lines with MFCs
Asher rate: 0-0.1u/min
Positive PR: >0.2u/min
Negative PR
Uniformity: Up to 25%
Particulate: <0.05 /cm2
Selectivity: >1000:1
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Plasma power: Air-cooled RF 13.56MHz
TC Option:
N2 Plasma: Up to 170°C
Types:
Barrel / Batch
Desktop
Stand alone
Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AW B3000是一種快速散熱處理器,其設計質量最高,精度最高。它利用先進的技術提供了從工藝到產品的快速熱傳遞,並為過程控制提供了對溫度、時間和大氣的卓越控制。該設備采用先進的高溫快速熱處理器控制，在加工過程中提供準確的熱控制。AW B3000支持高達2,700 °C的工藝溫度,以及用於精確控制的低噪聲環境。它還具有高防護性設計，具有高溫滅火室，可快速傳輸。處理器結合了開放式管腔設計，在處理過程中允許更大的靈活性和大氣控制。ALLWIN21 AW B3000配備了直接加熱系統，使整個加熱室均勻加熱。它還確保在不同級別的腔室上均勻的溫度分布。溫度的精確控制和可重復性通過一個復雜的溫度監測和控制單元得到促進。它允許+/-1°C的熱控制精度和0.001秒的時間控制精度。為了進一步確保溫度的均勻性和快速反應時間，溫度控制機用曝光快門工具增強。該資產還允許用戶準確控制每個處理步驟的曝光時間和曝光次數。該模型還包括可定制的晶片提升器，用於晶片和基板的快速裝卸。還有一個先進的自動晶片識別設備，可以進行精確的晶片加載和識別。此外，該系統還配備了自動化的數據記錄和報告，用於實時分析和反饋。AW B3000是一款功能強大且精確的行業標準快速散熱處理器。它具有卓越的精確度、精確度和處理速度,具有先進的溫度控制和報告功能,以及可定制的提升和懸掛系統,便於晶圓和基板裝卸。
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