二手 AMAT / APPLIED MATERIALS RTP Chamber for Centura XE+ #293586795 待售

ID: 293586795
晶圓大小: 8"
8" 2001 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS RTP Chamber for Centura XE+是一種快速熱處理器,旨在為各種半導體器件的晶圓進行精確處理。該腔室是一種高性能的解決方案,用於需要精確控制溫度、時間和其他參數的電氣和電子應用。RTP腔室精密可靠,溫度讀數精確,時間控制精確,操作方便。它采用鋁合金標準加熱板設計,工藝氣體種類繁多,工藝控制功能精準。加熱板設計用於在晶圓表面保持精確甚至均勻的溫度。可用的加工氣體範圍允許各種晶圓工藝,包括氧化、退火和其他熱處理。該腔室還設計用於支持真空和壓力過程。RTP Chamber還帶有先進的安全功能,如過電流保護和安全關閉開關。安全功能可防止誤操作、短路和過熱,確保晶圓處理的準確性和安全性。該室還配備了數字控制系統,允許精確的過程控制和易於調整。RTP Chamber也是為低功耗而設計的,使其成為一系列應用的節能解決方案。該室也是低維護,具有低氣味的設計和最小的清潔需要。此外,該室的設計允許無化學物質清潔,確保其安全使用,並消除對危險化學品和長時間清潔周期的需求。除RTP室外,AMAT還提供額外的附件和設備,以確保晶圓處理成功。例如,Centura XE+腔室清潔套件提供清潔器、蓋子和幹燥系統的系統,以確保腔室在每次使用後得到清潔和幹燥。這樣可以確保正確去除所應用的化學溶液,防止任何汙染或缺陷。此外,APPLIED MATERIALS還提供額外的固定式加熱塊、站控制和軟件,可用於為特定晶圓工藝定制腔室。總體而言,AMAT RTP Chamber for Centura XE+是一款先進而精確的快速散熱處理器,適用於各種應用。其精確的溫度控制、節能的設計、低功耗、先進的安全特性,使其成為一系列電子和電氣應用的理想選擇。有了額外的附件和一系列的工藝氣體,RTP腔室可以定制用於各種薄膜沈積工藝和處理。
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