二手 MPTC RTP-600XP #168733 待售
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ID: 168733
Rapid thermal processor
Specifications:
Gases: GN2, PN2, O2
Substrate: 2" Sapphire wafer
(2) MFC Controlled gas lines
With Pyrometer and type KTC
3Phase, 380V, 60Hz
Includes:
6" OD
(4) 2" Pocked silicon carbide coated graphite susceptor
For processing (4) 2" Sapphire wafer
Quartz tube
4"-6" Wafer tray
Currently crated.
MPTC RTP-600XP是一種最先進的快速熱處理器(RTP),旨在滿足工業和高級研究應用的嚴格要求。針對提高均勻性、優異的熱穩定性和最小化的刀具停機時間進行了全面優化。它具有獨特的多用途功能,使其能夠用於極端多樣的應用,如:DRAM沈積、高溫固化、快速退火和介電材料填充。該設備具有先進的直接等離子體源設備(DPPS),這使得它比現場的許多其他處理系統更加可靠和高效。該系統允許快速熱處理器穩定、快速地達到高達800 °C的溫度,同時在整個過程中實現精確的等離子體控制和高均勻性。此外,該裝置還具有位置感應、熱電偶控制、氣體控制和高精度溫度控制等先進的安全特性。RTP-600XP包括一系列模塊,每個模塊都能夠執行特定任務以實現自定義方便。熱區可實現加熱和冷卻的均勻作用,而真空室則可確保基板的精確對準。此外,濕蝕刻室允許清潔和蝕刻基材。該設備具有高級算法和顯示功能,允許用戶輕松查看和控制其流程。基板定位器是可調的,在操作過程中提供了靈活性。該設備設計易於使用和維護,具有堅固的結構和材料組成。MPTC RTP-600XP是任何工業或高級研究應用的理想選擇。其直接的等離子體源單元、靈活的模塊化機器和精確度使其成為當今市場上最可靠、最高效的熱處理器之一。它不僅提供了廣泛應用所需的性能和準確性,而且還以緊湊且易於管理的形式提供了性能和準確性。
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