二手 NPS RPH200 #293603755 待售

NPS RPH200快速熱處理器（RTP）是一種高性能、功能齊全的設備,旨在優化半導體材料的熱處理。該設備設計為提供精確的溫度控制、均勻的加熱和快速的坡道速率、寬廣的溫度範圍以及對每個熱處理階段的獨立控制。RPH200是具有兩個獨立加熱元件的兩級RTP,能夠達到500 °C的溫度。該系統包括兩個獨立溫度控制的獨立加熱元件。兩種加熱元件均可獨立編程，並自動同步，以確保加熱均勻。強大的加熱元件配置可實現快速的斜坡速率、均勻的溫度以及整個晶圓的溫度均勻性。該裝置采用閉路環境壓力控制機，使其在整個晶片上實現均勻的壓力控制和優異的溫度均勻性。冷板也可提供備用冷卻源。該工具被設計為與各種各樣的工藝工具一起使用，如反應性離子蝕刻系統、原子層沈積系統、光刻工具等等。NPS RPH200有幾個標準功能,可方便過程控制。它包括一個多渠道的實時流程監視器，允許對流程優化進行監控和輕松調整。還提供了一個可選的嵌入式氧氣（O2）傳感器，該傳感器對反應室的氧氣含量提供反饋，從而實現更大的過程控制。RPH200是一種可靠、高效的RTP資產,能夠進行過程優化。它提供精確的溫度控制、均勻性、快速的坡道速率，並具有與各種工藝工具配合使用的靈活性。該模型是為易於使用而設計的，確保了多個樣本結果的一致性。