二手 AIXTRON 200 #146468 待售

AIXTRON 200是一種現代的化學氣相沈積（CVD）反應器，設計用於生長無機（非金屬）和有機材料的薄膜和塗層。它能夠生長從幾個原子層厚到大於幾微米的薄膜，這取決於材料和工藝。該反應器具有兩個自上而下的垂直爐，具有大的加工室，從而使厚膜原位生長，在大基板上具有良好的均勻性、厚度和臺階覆蓋率。200由沈積室和負載鎖支撐模塊兩個主要部件組成。該室具有獨立的加熱、冷卻、排氣和裝卸能力，並配有機械臂和機械臂。可自定義腔室容量,以容納200 mm以下的多種基板尺寸。它的設計采用了模塊化概念，使工具易於升級，並有可能在今後引入新的工藝氣體和交替的預濺射工藝。沈積室具有兩個帶有多個射頻源臂的平面射頻電感，在ALD、等離子體增強型ALD等過程中，能夠顯著增加室內的反應性氣體控制。和PECVD.自上而下的雙室室設計和工藝方式,如Doherty蝕刻、晶體生長、快速熱處理和塗層,確保了薄膜生長或塗層的出色均勻性和可重復性。沈積室裝有帶電粒子槍，配有可調直流電源。這種槍非常適合具有固有負電荷的材料，如多晶矽、poly-SiGe和poly-III-V化合物。AIXTRON 200還配備了鎖載光發射設備、視頻檢測系統、氣流控制、原位橢圓偏振和石英晶體微平衡等多種工藝檢測和控制選項。負載鎖定支持模塊包括一個計算機控制的晶片傳輸系統、真空和壓力泵、一個計算機控制的氣體消減裝置，使反應堆具備處理有害氣體的能力，以及一個射頻蝕刻機。所有組件均符合ATEX認證和UVCE認證。該反應堆能夠運行多種沈積過程，如MOCVD、ALD、PECVD和快速熱處理。具有高水平的工藝控制和薄膜的均勻性，200適用於制造包括薄膜太陽能電池、LED、晶體管、薄膜電池在內的各種薄膜器件，以及用於先進MEMS器件的超薄門堆棧結構。