二手 AIXTRON 2000 HT #9093575 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9093575
優質的: 2005
MOCVD System
Nitride (GaN)
Controller
Planetary reactor
Gas foil rotation
RF Cooling wafers
Glove box
PC Controller: DELL Poweredge 1750
Reactor temperature gauge: EUROTHERM
Reactor pressure gauge: MKS 600 Controller
Pressure balancing gauge: EUROTHERM
Temperature control system: LUXTRON 100C Optical fiber
Main system
With (8) PLC systems
HUTTINGER Generator
UN2000 A WHG Scrubber
AFFINITY ED17 CAM 2P
Pump cabinet
BUSCH Dry pump
(2) Scroll pumps
Gases: N2, H2, SiH4, HCL and NH3
MO Baths
LUDA-S RM6
(4) NESLAB RTE-111
Gas box with Amonia, N2, N2 Purifier
MO: TMGa, TMAI, TEGa, TMin
Chiller missing
2005 vintage.
AIXTRON 2000 HT是為高溫沈積過程如MOCVD（金屬-有機化學氣相沈積）而設計的化學反應器設備。這一高通量系統配備了一個反應室，該反應室具有六個對角線的平板磁感器和一個集成的機器人基板定位單元。反應室由熱壁加熱器機控制溫度，底物溫度可通過充氣噴射調節。該工具有大量的入口和出口，以確保在沈積過程中連續的氣體混合，以及針對可能的壓力變化的魯棒性。2000 HT能夠在高達1000 °C的溫度範圍內運行。AIXTRON 2000 HT還利用一個6英寸的石英視口，能夠從反應室中查看沈積過程。它可以通過精密的控制資產來監測和優化氣流、溫度、壓力等工藝參數。其遠程編程功能還確保了對流程的精確控制。集成的幹蝕刻模型進一步促進了膜厚度的原位控制。2000 HT的設計目的是以高通量和最低的熱預算加快材料沈積過程。適用於單層和多層沈積。該設備能夠生產復雜三維形狀的高質量薄膜塗層，並具有精確的層控制能力。通過利用高溫沈積技術，AIXTRON 2000 HT為制造膜和半導體器件，如GaAs或基於GaN的LED和激光二極管提供了一種經濟的制造解決方案。該系統既可用於批量生產，也可用於連續生產，便於操作和維護。
還沒有評論